[發(fā)明專利]靶材組件形成方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811060867.0
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN110894589A
• 公開（公告）日: 2020-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;潘杰;王學(xué)澤;壽奉糧
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C18/36;C22C27/04
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 吳敏

一種靶材組件形成方法，包括：提供靶材，所述靶材具有靶材焊接面；提供背板，所述背板具有背板焊接面；將所述靶材焊接面鍍鎳，形成鎳鍍層；在所述鎳鍍層與所述背板焊接面之間放置釬料，對所述靶材以及所述背板進(jìn)行焊接，形成靶材組件。由于所述釬料能夠在所述鎳鍍層上充分的浸潤和鋪展，因而所述靶材與所述背板焊接的更為牢固，有利于提高形成的所述靶材組件的焊接質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種靶材組件形成方法。

背景技術(shù)

濺射鍍膜屬于物理氣相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。

在濺射鍍膜工藝中，靶材需與背板焊接在一起，構(gòu)成靶材組件，共同裝配至濺射基臺。所述背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，且還可以起到固定支撐作用。

濺射鍍膜過程中，靶材組件處于高溫環(huán)境中，為了對所述靶材組件進(jìn)行降溫，通常采用持續(xù)的高壓冷卻水沖擊所述背板。所述高壓冷卻水在靶材與背板間造成較大的壓力差，因此要求所述靶材與所述背板具有較強(qiáng)的焊接牢固度。

然而，現(xiàn)有技術(shù)制造的靶材組件的焊接質(zhì)量有待提高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材組件形成方法，使釬料能夠在靶材上充分的浸潤和鋪展，從而提高靶材組件的焊接質(zhì)量。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材組件形成方法，包括：提供靶材，所述靶材具有靶材焊接面；提供背板，所述背板具有背板焊接面；將所述靶材焊接面鍍鎳，形成鎳鍍層；在所述鎳鍍層與所述背板焊接面之間放置釬料，對所述靶材以及所述背板進(jìn)行焊接，形成靶材組件。

可選的，所述鎳鍍層包括鎳元素及磷元素，其中，鎳元素含量為89％～93％，磷元素含量為6％～10％。

可選的，所述鎳鍍層的厚度為8微米～10微米。

可選的，形成所述鎳鍍層的方法為化學(xué)鍍工藝。

可選的，所述化學(xué)鍍工藝包括：提供活化劑，用所述活化劑浸泡所述靶材；提供鍍液，將所述靶材浸泡于所述鍍液中，在所述靶材焊接面上沉積所述鎳鍍層。

可選的，所述活化劑為氫氟酸的水溶液，其中，氫氟酸與水的體積比例為1:8。

可選的，所述鍍液包括：硫酸鎳、次亞磷酸鈉、硼酸及檸檬酸三鈉，其中，所述硫酸鎳的質(zhì)量濃度為96g/L～104g/L，所述次亞磷酸鈉的質(zhì)量濃度為170g/L～200g/L，所述硼酸的質(zhì)量濃度為145g/L～165g/L，所述檸檬酸三鈉的質(zhì)量濃度為145g/L～165g/L。

可選的，所述鍍液的pH為4.6～4.8。

可選的，所述鍍液的溫度為86℃～90℃。

可選的，所述鍍液的裝載量為0.5dm²/L～1.5dm²/L。

可選的，沉積所述鎳鍍層的過程中，對所述鍍液進(jìn)行攪拌，攪拌時間為2分鐘～3分鐘。

可選的，用所述活化劑浸泡所述靶材前，采用噴砂工藝對所述靶材焊接面進(jìn)行粗化處理。

可選的，所述靶材的材料為鎢鈦合金。

可選的，所述鎢鈦合金中，鈦的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25％～35％，鎢的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為65％～75％。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：