[發明專利]銀蝕刻液組合物、利用它的蝕刻方法及金屬圖案形成方法

有效

• 申請號: 201811060574.2
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN109750292B
• 公開（公告）日: 2022-11-18
• 發明（設計）人: 金鎮成;金煉卓;梁圭亨
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/30
• 分類號: C23F1/30;H01L21/3213;H01L51/56
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 楊黎峰;鐘錦舜

1.一種銀蝕刻液組合物，

相對于組合物的總重量，所述銀蝕刻液組合物包含40重量％至70重量％的磷酸、2重量％至9重量％的硝酸、0.1重量％至9重量％的有機酸、0.1重量％至9重量％的無機酸鹽化合物或有機酸鹽化合物及使組合物的總重量成為100重量％的余量的水，且不包含醋酸。

2.根據權利要求1所述的銀蝕刻液組合物，其中，

所述有機酸為選自由檸檬酸、甘氨酸、丁酸、異檸檬酸、甲酸、葡萄糖酸、乙醇酸、丙二酸、草酸、戊酸、磺基苯酸、磺基琥珀酸、水楊酸、磺基水楊酸、苯酸、乳酸、甘油酸及丙烯酸組成的組中的一種以上。

3.根據權利要求1所述的銀蝕刻液組合物，其中，

所述無機酸鹽化合物為選自由硝酸鹽、硫酸鹽及磷酸鹽組成的組中的一種以上，

所述有機酸鹽化合物為選自由選自乙酸、亞氨基二乙酸、乙二胺四乙酸、丁酸、檸檬酸、異檸檬酸、甲酸、葡萄糖酸、乙醇酸、丙二酸、草酸、戊酸、磺基苯酸、琥珀酸、磺基琥珀酸、水楊酸、磺基水楊酸、苯酸、乳酸、甘油酸、蘋果酸、酒石酸及丙烯酸中的任一種的鉀鹽、鈉鹽或銨鹽的形態組成的組中的一種以上。

4.根據權利要求1所述的銀蝕刻液組合物，其中，

銀蝕刻液組合物能夠同時蝕刻由銀或銀合金組成的單層膜或由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜。

5.根據權利要求4所述的銀蝕刻液組合物，其特征在于，

所述氧化銦為選自由氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化銦錫鋅及氧化銦鎵鋅組成的組中的一種以上。

6.根據權利要求4所述的銀蝕刻液組合物，其特征在于，

由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜為氧化銦膜/銀、氧化銦膜/銀合金、氧化銦膜/銀/氧化銦膜、或氧化銦膜/銀合金/氧化銦膜。

7.一種蝕刻方法，包括以下步驟：

在基板上形成由銀或銀合金組成的單層膜或由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜；

在由銀或銀合金組成的所述單層膜或由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜上選擇性地殘留光反應物質；以及

使用權利要求1所述的組合物來對由銀或銀合金組成的所述單層膜或由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜進行蝕刻。

8.一種形成金屬圖案的方法，包括以下步驟：

形成由銀或銀合金組成的單層膜或由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜；以及

使用權利要求1所述的組合物來對由銀或銀合金組成的所述單層膜或由所述單層膜和氧化銦膜構成的多層膜進行蝕刻。