[發(fā)明專利]一種充分暴露二硫化鉬活性位的催化析氫電極的構(gòu)筑方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811060369.6 | 申請(qǐng)日： | 2018-09-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN109183058B | 公開（公告）日： | 2020-08-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳金菊;李培真;馮哲圣;王焱;陳龍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C25B1/04 | 分類號(hào)： | C25B1/04;C25B11/06;B41M5/00 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51230 | 代理人： | 蔣秀清;李春芳 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 充分 暴露 二硫化鉬 活性 催化 電極 構(gòu)筑 方法 | ||
1.一種充分暴露二硫化鉬活性位的催化析氫電極的構(gòu)筑方法，其特征在于，包括如下步驟：[1]制備包含有二硫化鉬納米薄片的分散液；[2]將步驟[1]制備的包含二硫化鉬納米薄片的分散液作為印刷油墨，采用噴墨印刷法在電極基底上形成立體圖案化二硫化鉬基催化析氫電極；步驟[2]所述電極基底為表面覆蓋有導(dǎo)電薄膜的、表面粗糙度大的剛性或撓性基材；
所述包含有二硫化鉬納米薄片的分散液的制備方法為：
[1-1]采用液相超聲剝離法得到包含二硫化鉬納米薄片的懸浮液，在所述液相超聲剝離法中的剝離溶劑中添加表面活性劑和重堆積抑制劑，所述重堆積抑制劑為還原氧化石墨烯，在步驟[1-1]所述液相超聲剝離過程中，加入剝離溶劑中的還原氧化石墨烯與二硫化鉬的質(zhì)量比為0.05～0.15:1；
[1-2]對(duì)步驟[1-1]得到的包含二硫化鉬納米薄片的懸浮液進(jìn)行離心分離，取三分之二處上清液得到二硫化鉬基納米薄片分散液。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種充分暴露二硫化鉬活性位的催化析氫電極的構(gòu)筑方法，其特征在于：所述表面活性劑為聚乙烯吡咯烷酮。
3.按照權(quán)利要求2所述的一種充分暴露二硫化鉬活性位的催化析氫電極的構(gòu)筑方法，其特征在于：在步驟[1-1]所述液相超聲剝離過程中，加入剝離溶劑中的聚乙烯吡咯烷酮和二硫化鉬的質(zhì)量比為0.15～0.25:1。
4.按照權(quán)利要求1所述的一種充分暴露二硫化鉬活性位的催化析氫電極的構(gòu)筑方法，其特征在于，步驟[2]中形成立體圖案化二硫化鉬基催化析氫電極的過程為：先以平面圖形噴印多次，然后以方形回旋紋或同心圓圖案噴印多次。
5.按照權(quán)利要求4所述的一種充分暴露二硫化鉬活性位的催化析氫電極的構(gòu)筑方法，其特征在于，先以平面圖形噴印10次，再以方形回旋紋或同心圓圖案噴印10-20次。
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