[發明專利]一種制備高疏水性Ni-Co-P-BN(h)-Al2 在審
| 申請號: | 201811059056.9 | 申請日: | 2018-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN110878421A | 公開(公告)日: | 2020-03-13 |
| 發明(設計)人: | 康敏;張銀;傅秀清 | 申請(專利權)人: | 南京農業大學 |
| 主分類號: | C25D15/00 | 分類號: | C25D15/00;C25D3/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 210031 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 疏水 ni co bn al base sub | ||
1.一種制備高疏水性Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3二元納米復合鍍層的電化學方法。其特征在于,該方法包括以下步驟:
(1)45鋼基底前處理:工件機械打磨拋光→電凈除油→弱活化→強活化;
(2)Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3鍍液的配置:主鹽是硫酸鎳(NiSO4·6H2O),為電沉積過程提供鎳離子;氯化鎳(NiCl2·6H2O)可防止陽極鈍化;硫酸鈷(CoSO4·6H2O),為電沉積過程提供鈷離子;亞磷酸(H3PO3)充當還原劑的同時,提供了電沉積所需要的磷源;硼酸(H3BO3)為PH緩沖劑,維持鍍液PH值的穩定性;檸檬酸(Citric Acid)為絡合劑,保證電沉積反應過程的平穩進行;硫脲(Thiourea)為穩定劑,可以保證鍍液的穩定性;十二烷基苯磺酸鈉(SDBS)為表面活性劑,提高納米BN(h)、Al2O3顆粒在鍍液中的懸浮量;
(3)電化學沉積制備Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3二元納米復合鍍層:陰極為步驟(1)處理后的45鋼基底,陽極為鎳板,直流電源為電沉積加工過程提供電能,鍍液通過機械攪拌均勻且設置攪拌速度,控制鍍液溫度和電流密度;
(4)復合鍍層清洗:將步驟(3)制備的Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3二元納米復合鍍層用去離子水充分清洗干凈,吹干裝袋。
在本發明一個較佳實施案例中,步驟(1)的工件45鋼基底尺寸為7mm×8mm×30mm,利用金相試樣拋磨機對基底進行機械打磨拋光。在室溫下,電凈除油是碳棒接正極,工件45鋼接負極,控制電源電流為1A,通電時間25s;電凈液配方:NaOH 25.0g/L,NaCO321.7g/L,Na3PO450.0g/L,NaCl 2.4g/L,PH=13。弱活化是工件45鋼接正極,碳棒接負極,控制電源電流為1A,通電時間30s;活化液配方:鹽酸25g/L,NaCl 140.1g/L,PH=0.3。強活化是工件45鋼接正極,碳棒接負極,控制電源電流為1A,通電時間30s;活化液配方:Na3C6H5O7·2H2O141.2g/L,檸檬酸94.3g/L,NiCl2·6H2O 3.0g/L,PH=4。
在本發明一個較佳實施案例中,所述步驟(2)中Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3鍍液配置的具體步驟為:將硫酸鎳(NiSO4·6H2O)、氯化鎳(NiCl2·6H2O)、硫酸鈷(CoSO4·6H2O)、亞磷酸(H3PO3)、硼酸(H3BO3)、檸檬酸(Citric acid)、硫脲(Thiourea)及十二烷基苯磺酸鈉(SDBS)在燒杯中充分攪拌溶解后得到Ni-Co-P合金鍍液;分別將BN(h)、Al2O3納米顆粒放入適量去離子水中超聲波分散5min并靜置潤濕24h,然后將潤濕后的納米顆粒懸浮液再次進行超聲波分散30min,最后將分散后的納米顆粒懸浮液加入配置好的Ni-Co-P基礎鍍液中,得到Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3鍍液,靜置待用。
在本發明一個較佳實施案例中,所述步驟(3)中采用電化學法制備Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3二元納米復合鍍層的工藝條件是:鍍液溫度為60℃,電流密度為5A/dm2,機械攪拌速度為300r/min,電沉積加工時間為90min。
在本發明一個較佳實施案例中,所述步驟(4)中Ni-Co-P-BN(h)-Al2O3二元納米復合鍍層用去離子水超聲清洗5min,用吹風機吹干后,裝密封袋。
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