[發明專利]吸附機構、清洗裝置、化學發光檢測儀及清洗方法

有效

• 申請號: 201811057621.8
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN110883039B
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發明（設計）人: 朱亮;尹力;胡毅;班定平;易萬貫;童帥
• 申請（專利權）人: 深圳市新產業生物醫學工程股份有限公司
• 主分類號: B08B9/26
• 分類號: B08B9/26;B08B13/00;G01N21/76
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 石佩

1.一種磁珠復合物吸附機構，用于吸附做公轉運動的反應杯中的磁珠復合物、并具有進杯位和出杯位，其特征在于，所述磁珠復合物吸附機構包括底座和多個磁吸組件，全部所述磁吸組件間隔設置在所述底座的同一安裝圓周上，所述安裝圓周與所述反應杯的公轉軌跡同心設置；

其中，在所述反應杯從所述進杯位繞經多個所述磁吸組件而公轉至所述出杯位的過程中，所述磁珠復合物的吸附高度可變，當單個反應杯公轉一周時，所述磁珠復合物的吸附高度先增大后減少。

2.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述底座上設置有測杯傳感器，所述測杯傳感器用于所述進杯位是否存在反應杯。

3.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述磁吸組件均位于所述反應杯的公轉軌跡的內側。

4.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，相鄰兩個所述磁吸組件之間至少容納一個反應杯位。

5.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述磁珠復合物在所述出杯位的吸附高度小于在所述進杯位的吸附高度。

6.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，每個所述磁吸組件均包括多個弧形磁鐵，同一磁吸組件上的多個所述弧形磁鐵沿所述安裝圓周的周向排列。

7.根據權利要求6所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，每個所述磁吸組件還包括支撐座和導磁片，所述支撐座固定在所述底座的安裝圓周上，所述導磁片固定在所述支撐座朝向所述反應杯的表面，所述弧形磁鐵貼合在所述導磁片上。

8.根據權利要求6所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述弧形磁鐵包括上下疊置的第一磁鐵和第二磁鐵，第一、第二磁鐵的層疊處到所述底座的距離與所述弧形磁鐵的磁吸高度成正比。

9.根據權利要求6所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，多個磁吸組件包括沿所述反應杯公轉方向依次間隔設置的第一磁吸組件、中間磁吸組件和第二磁吸組件，所述第一磁吸組件靠近所述進杯位設置，所述第二磁吸組件靠近所述出杯位設置，所述第一磁吸組件上的多個所述弧形磁鐵的磁吸高度相等并記為A，所述中間磁吸組件上的多個所述弧形磁鐵的磁吸高度相等并記為B，其中B≥A。

10.根據權利要求9所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述第二磁吸組件上最靠近所述中間磁吸組件的所述弧形磁鐵的磁吸高度為C，其中C與B相等。

11.根據權利要求9所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，沿所述反應杯的公轉方向，所述第二磁吸組件上的多個所述弧形磁鐵的磁吸高度逐漸減少，使得所述磁珠復合物的吸附高度逐漸減少。

12.根據權利要求9所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述第一磁吸組件和中間磁吸組件上相鄰的兩個弧形磁鐵相互抵接。

13.根據權利要求12所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述第二磁吸組件上相鄰的兩個弧形磁鐵相互間隔而形成一定間隙，所述第二磁吸組件還包括過渡磁鐵，所述過渡磁鐵設置在相鄰兩個弧形磁鐵之間的間隙中。

14.根據權利要求13所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，沿所述反應杯的公轉方向，所述過渡磁鐵依次逐漸靠近所述底座設置。

15.根據權利要求9所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述第二磁吸組件上所述弧形磁鐵的數量大于所述第一磁吸組件和/或中間磁吸組件上的所述弧形磁鐵的數量。