[發(fā)明專(zhuān)利]光源模組、3D成像系統(tǒng)、身份識(shí)別裝置及電子設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811056284.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109068117A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王小明 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳阜時(shí)科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H04N13/204 | 分類(lèi)號(hào): | H04N13/204;G03B15/03 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市南山*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光束形成 光發(fā)射組件 光源模組 目標(biāo)物 視場(chǎng) 投射 身份識(shí)別裝置 電子設(shè)備 結(jié)構(gòu)光 泛光 光電技術(shù)領(lǐng)域 有效縮小體積 分時(shí)發(fā)射 發(fā)射 圖案化 平行 | ||
1.一種光源模組,其特征在于,其包括單一光發(fā)射組件、第一光束形成器及第二光束形成器;所述光發(fā)射組件用于分時(shí)發(fā)射光線(xiàn)至所述第一光束形成器及所述第二光束形成器;所述第一光束形成器用于將所述光發(fā)射組件所發(fā)射的光線(xiàn)調(diào)制成均勻的泛光并投射至一目標(biāo)物;所述第二光束形成器用于將所述光發(fā)射組件所發(fā)射的光線(xiàn)調(diào)制成圖案化的結(jié)構(gòu)光并投射至所述目標(biāo)物;所述第二光束形成器靠近所述第一光束形成器設(shè)置,且所述第二光束形成器的視場(chǎng)范圍與所述第一光束形成器的視場(chǎng)范圍部分重疊,以使得所述泛光及所述結(jié)構(gòu)光均能被投射至所述目標(biāo)物。
2.如權(quán)利要求1所述的光源模組,其特征在于,所述光發(fā)射組件包括一個(gè)光發(fā)射器及一個(gè)控制器;所述控制器用于控制所述光發(fā)射器進(jìn)行旋轉(zhuǎn),以調(diào)節(jié)所述光發(fā)射器的發(fā)光面的方向,使得所述光發(fā)射器所發(fā)射的光線(xiàn)能夠投射至所述第一光束形成器或所述第二光束形成器。
3.如權(quán)利要求1所述的光源模組,其特征在于,所述光發(fā)射組件包括一個(gè)側(cè)發(fā)光的光發(fā)射器、一個(gè)可移動(dòng)的反射元件及一個(gè)驅(qū)動(dòng)器;所述光發(fā)射器固定設(shè)置在所述第一光束形成器及所述第二光束形成器的入光側(cè);所述驅(qū)動(dòng)器用于驅(qū)動(dòng)所述反射元件相對(duì)于所述光發(fā)射器進(jìn)行移動(dòng),以改變所述反射元件與所述光發(fā)射器之間的距離,使得所述反射元件能夠?qū)⑺龉獍l(fā)射器所發(fā)射的光線(xiàn)投射至所述第一光束形成器或所述第二光束形成器。
4.如權(quán)利要求1所述的光源模組,其特征在于,所述光發(fā)射組件包括一個(gè)側(cè)發(fā)光的光發(fā)射器、一個(gè)控制器及一個(gè)反射元件;所述反射元件固定設(shè)置在所述第一光束形成器及所述第二光束形成器的入光側(cè);所述控制器用于控制所述光發(fā)射器相對(duì)于所述反射元件的反射面進(jìn)行旋轉(zhuǎn),以調(diào)節(jié)所述光發(fā)射器的發(fā)光面的出光方向與所述光發(fā)射器的反射面之間的相對(duì)傾斜角度,使得所述光發(fā)射器所發(fā)射的光線(xiàn)能夠到達(dá)所述反射元件的反射面的不同區(qū)域,從而被反射至所述第一光束形成器或所述第二光束形成器。
5.如權(quán)利要求1所述的光源模組,其特征在于,所述光發(fā)射組件包括一個(gè)側(cè)發(fā)光的光發(fā)射器、一個(gè)控制器及一個(gè)反射元件;所述反射元件固定設(shè)置在所述第一光束形成器及所述第二光束形成器的入光側(cè);所述控制器用于控制所述光發(fā)射器相對(duì)于所述反射元件的反射面進(jìn)行移動(dòng),以調(diào)節(jié)所述光發(fā)射器的發(fā)光面與所述光發(fā)射器的反射面之間的距離,使得所述光發(fā)射器所發(fā)射的光線(xiàn)能夠到達(dá)所述反射元件的反射面的不同區(qū)域,從而被反射至所述第一光束形成器或所述第二光束形成器。
6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光源模組,其特征在于,所述第一光束形成器為泛光調(diào)制器,所述第二光束形成器為衍射光學(xué)元件。
7.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光源模組,其特征在于,所述第一光束形成器的入光面與所述第二光束形成器的入光面位于同一平面。
8.如權(quán)利要求7所述的光源模組,其特征在于,所述第一光束形成器與所述第二光束形成器之間具有一預(yù)定間隔距離,以防止光線(xiàn)串?dāng)_。
9.如權(quán)利要求8所述的光源模組,其特征在于,所述第一光束形成器與所述第二光束形成器之間設(shè)置一個(gè)擋光元件。
10.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光源模組,其特征在于,所述光發(fā)射組件所發(fā)射的光線(xiàn)為可見(jiàn)光或者紅外光。
11.一種3D成像系統(tǒng),其特征在于,其包括僅一個(gè)上述權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光源模組、一個(gè)圖像獲取模組及一個(gè)處理器;所述圖像獲取模組用于獲取被所述目標(biāo)物所反射的泛光,以得到所述目標(biāo)物的二維圖像;還用于獲取被所述目標(biāo)物所反射的圖案化的結(jié)構(gòu)光,以得到所述目標(biāo)物的深度信息;所述處理器用于根據(jù)所述目標(biāo)物的二維圖像及深度信息,生成所述目標(biāo)物的3D圖像。
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