[發明專利]化學氣相沉積設備在審
| 申請號: | 201811055932.0 | 申請日: | 2018-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN110885973A | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發明(設計)人: | 丁欣 | 申請(專利權)人: | 上海引萬光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/46 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 200331 上海市普陀區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 沉積 設備 | ||
1.一種化學氣相沉積設備,包括反應腔,所述反應腔內包括多個用于承載襯底的基座,所述多個基座為圓盤形,工藝氣體通過管路進入所述反應腔,其特征在于,
所述多個基座中的每個所述基座彼此之間并列排布,各個所述基座的圓心在同一直線上;
各個所述基座的承載所述襯底的上表面彼此相互平行或在同一平面上;
各個所述基座的轉動軸線在同一平面上,各個所述基座相對于彼此獨立地旋轉;以及所述工藝氣體沿各個所述基座的所述上表面,以垂直于各個所述基座的各個所述圓心的連線為方向流動。
2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述反應腔和所述基座之間還包括內盒,所述內盒的形狀包括長方體;以及
所述反應氣體沿所述基座的所述上表面,并且以與所述上表面與所述內盒的截面截得的長方形短邊相對平行的方向流動。
3.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,相鄰的所述基座以彼此相反的方向旋轉。
4.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述化學氣相沉積設備還包括質量流量計,對所述多個基座使用共同的所述質量流量計,所述質量流量計分配所述工藝氣體到各個所述基座;以及
在所述工藝氣體從所述質量流量計流向所述基座的所述管路上設置調節閥。
5.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述化學氣相沉積設備還包括傳輸腔和機械傳輸臂,所述傳輸腔為多邊形,所述傳輸腔的至少一邊設置有所述襯底的中轉站,其余各邊設置有所述反應腔;以及
所述機械傳輸臂位于所述傳輸腔內,向所述反應腔的所述多個基座傳輸所述襯底。
6.根據權利要求5所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述機械傳輸臂還被配置為沿平行于所述反應腔中各個所述基座的各個所述圓心的連線方向運動。
7.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,在各個所述基座之間填充基座延伸部分,所述基座延伸部分的材質與所述基座相同,所述基座延伸部分的上表面與所述基座的上表面在同一平面。
8.根據權利要求7所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述基座延伸部分的上表面包括遮擋、突起、凹陷、導流鰭、定位點中的一種或多種。
9.根據權利要求7所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述基座延伸部分的上表面與所述基座的上表面具有高程差,所述高程差可以通過機械結構實現手動或者自動調節。
10.根據權利要求2所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述內盒由非金屬耐高溫耐腐蝕材料制成。
11.根據權利要求2所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,在所述反應腔和所述內盒之間設置發熱體,所述發熱體包括紅外燈源、電阻式加熱器,所述電阻式加熱器包括金屬或石墨電阻式加熱器。
12.根據權利要求11所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述金屬電阻式加熱器或所述石墨電阻式加熱器的驅動方式還包括通過感應線圈射頻激勵金屬或石墨,使所述金屬電阻式加熱器或所述石墨電阻式加熱器發熱。
13.根據權利要求11所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述電阻式加熱器為螺旋線形。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





