[發明專利]冷卻系統、光源系統以及光源系統的冷卻方法

在審

• 申請號: 201811053267.1
• 申請日: 2018-09-10
• 公開（公告）號: CN110887025A
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發明（設計）人: 謝頌婷;亓森林;劉海濤;李屹
• 申請（專利權）人: 深圳光峰科技股份有限公司
• 主分類號: F21V29/56
• 分類號: F21V29/56;B01D15/02
• 代理公司: 深圳市智圈知識產權代理事務所(普通合伙) 44351
• 代理人: 苗燕

1.一種冷卻系統，其特征在于，包括：

循環管道，用于供冷卻液循環流動；以及

吸附裝置，所述吸附裝置設置于所述循環管道的管路路徑上，所述冷卻液在所述循環管道流動過程中與所述吸附裝置接觸。

2.根據權利要求1所述的冷卻系統，其特征在于，所述冷卻系統還包括冷卻裝置，所述冷卻裝置設置于所述循環管道上或所述循環管道內并對流經所述循環管道的冷卻液降溫。

3.根據權利要求1所述的冷卻系統，其特征在于，所述循環管道包括冷卻液供給裝置以及冷卻循環管，所述冷卻循環管與所述冷卻液供給裝置連通，所述冷卻液在所述冷卻循環管以及所述冷卻液供給裝置間循環流動，所述吸附裝置設置于所述冷卻循環管的管路路徑上或所述冷卻液供給裝置內。

4.根據權利要求1所述的冷卻系統，其特征在于，所述吸附裝置包括殼體外殼以及吸附劑，所述吸附劑設置于所述外殼內部，所述外殼設置于所述循環管道的管路路徑上。

5.根據權利要求1所述的冷卻系統，其特征在于，所述循環管道包括冷卻液供給裝置、冷卻循環管以及吸附循環管，所述冷卻循環管和所述吸附循環管分別與所述冷卻液供給裝置連通，所述冷卻液選擇性的在所述冷卻循環管以及所述冷卻液供給裝置間流動或在所述吸附循環管以及所述冷卻液供給裝置間循環流動，所述吸附裝置設置于所述吸附循環管的管路路徑上或所述冷卻液供給裝置內。

6.根據權利要求3所述的冷卻系統，其特征在于，所述冷卻循環管的管路路徑上設置有熱交換器。

7.根據權利要求1-6任一項所述的冷卻系統，其特征在于，所述吸附裝置包括吸附劑，所述吸附劑為樹脂或活性炭。

8.根據權利要求1-6任一項所述的冷卻系統，其特征在于，所述吸附裝置包括正極板和負極板，所述正極板和所述負極板間隔相對設置并位于所述循環管道內，所述正極板和所述負極板之間形成供冷卻液流動的通道。

9.一種光源系統，其特征在于，包括：

光源；以及

權利要求1-8任一項所述的冷卻系統，所述冷卻系統用于對所述光源降溫。

10.一種光源冷卻方法，應用于如權利要求9所述的冷卻系統，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

使冷卻液在所述循環管道內流動，并在流動過程中與設置于循環管道的管路路徑上的所述吸附裝置接觸。