[發明專利]一種真空吸附裝置

有效

• 申請號: 201811051718.8
• 申請日: 2018-09-10
• 公開（公告）號: CN108817715B
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 張芙蓉;丁黎明;梅領亮;徐地華
• 申請（專利權）人: 廣東正業科技股份有限公司
• 主分類號: B23K26/70
• 分類號: B23K26/70;B23K37/04;B23K26/38
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 張春水;唐京橋

本發明公開了一種真空吸附裝置，包括真空吸附平臺和密槽工裝，密槽工裝安裝于真空吸附平臺上。密槽工裝包括密槽部，密槽部上開設有若干狹縫槽，狹縫槽為通槽，貫穿密槽部相對的兩板面。本發明的真空吸附裝置可用于激光切割，尤其適用于在薄壁材料上采用激光切割狹縫。本發明的真空吸附裝置通過密槽工裝對待加工件提供良好支撐，密槽工裝與待加工件直接接觸，可有效地進行熱傳導。密槽工裝上開設的狹縫槽，使得待加工件的狹縫位置下方鏤空，進而使激光切割時產生的廢渣、廢氣可通過狹縫槽有效排出。

技術領域

本發明涉及激光加工技術領域，尤其涉及一種真空吸附裝置。

背景技術

材料在進行激光加工前，會先將其固定于真空吸附平臺上，再進行加工。常見的真空吸附平臺有中空邊框式和蜂窩板式，這兩種形式的平臺適用于厚壁材料的激光加工。而對于薄壁材料的加工，尤其是狹縫片的加工，容易產生缺陷。狹縫片是采用激光切割工藝在薄壁材料上開設狹縫制成，也稱透光片、光闌片或光柵片，狹縫的寬度一般為25um～200um。

若薄壁材料置于中空邊框式真空吸附平臺固定，采用激光加工時，在切割氣壓和負壓吸附的雙重作用下，薄壁材料會中間凹陷邊緣凸起進而處在離焦狀態，影響切割質量的均勻性。若薄壁材料置于蜂窩板式真空吸附平臺固定，由于狹縫尺寸過小，在激光加工時，真空吸附平臺阻礙了廢渣的排出和壓力的釋放，造成狹縫內熔渣堆積、部分熔渣和真空吸附平臺粘連、材料局部發生熱變形。

發明內容

本發明的目的在于提供一種真空吸附裝置，以解決在薄壁材料上加工狹縫時廢渣堆積的問題。

為達此目的，本發明采用以下技術方案：

一種真空吸附裝置，包括真空吸附平臺和密槽工裝，所述密槽工裝安裝于所述真空吸附平臺上；

所述密槽工裝包括密槽部，所述密槽部上開設有若干狹縫槽；所述狹縫槽為通槽，貫穿所述密槽部相對的兩板面；所述密槽工裝的頂面用于放置待加工件，所述待加工件包括若干狹縫部，各所述狹縫槽的位置分別與一所述狹縫部的位置對應，各所述狹縫部在所述密槽工裝上的投影位于對應的所述狹縫槽中。

可選的，所述狹縫槽的槽壁包括長度向槽壁和寬度向槽壁；所述狹縫槽三面開口，包括兩個相對的板面開口和一個側面開口；所述側面開口貫穿所述狹縫槽的一寬度向槽壁和所述密槽部的一側面，進而使所述狹縫槽的槽壁由一個寬度向槽壁和兩個相對的長度向槽壁組成；

若干所述狹縫槽等間距平行排布；所述真空吸附平臺為蜂窩式真空吸附平臺，所述密槽工裝的材料為導熱材料。

可選的，所述密槽工裝還包括平板部，所述平板部固定連接所述密槽部背離所述側面開口的一面；所述平板部和所述密槽部的高度相同。

可選的，所述真空吸附裝置還包括若干L型工裝；若干所述L型工裝安裝于所述真空吸附平臺上，環繞所述密槽工裝設置；所述L型工裝的材料為導熱材料。

可選的，所述真空吸附裝置包括四個L型工裝，四個所述L型工裝在所述真空吸附平臺上的投影外輪廓組成帶有四個排氣開口的拼裝矩形，各所述排氣開口分別位于所述拼裝矩形的一條邊上。

可選的，所述真空吸附平臺包括真空吸附箱和運動模組，所述真空吸附箱固定于所述運動模組上；所述真空吸附箱內開設有真空吸附腔，所述真空吸附箱上設有連通所述真空吸附腔的真空接頭，所述真空接頭連接真空泵；

所述真空吸附箱的頂面上開設有多個連通所述真空吸附腔的吸附孔，多個所述吸附孔成矩形陣列排布。

可選的，所述運動模組包括X向直線模組和Y向直線模組；所述Y向直線模組的滑塊固定連接所述X向直線模組，所述X向直線模組的滑塊固定連接所述真空吸附箱；所述X向直線模組垂直于所述Y向直線模組。