[發(fā)明專利]一種制備近等原子比Co-Ni-Al磁控形狀記憶合金電子背散射衍射試樣的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811049432.6
• 申請(qǐng)日: 2018-09-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109283204A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王軍;卜凡;賀一軒;李金山;薛祥義;王毅;寇宏超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西北工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N23/20008
• 分類號(hào): G01N23/20008
• 代理公司: 西北工業(yè)大學(xué)專利中心 61204
• 代理人: 劉新瓊

1.一種制備近等原子比Co-Ni-Al磁控形狀記憶合金電子背散射衍射試樣的方法，其特征在于步驟如下：

步驟1：用電火花切割機(jī)切取試樣，將試樣依次用240、400、800、1000、1500、2000、3000、5000目的金相砂紙預(yù)磨至表面細(xì)劃痕沿一個(gè)方向，后用金相研磨拋光機(jī)手動(dòng)拋光：先以450r/min的拋光速率和1.5μm的金剛石拋光膏拋光5～10分鐘，后以250r/min的拋光速率和1.0μm的金剛石拋光膏進(jìn)行二次機(jī)械拋光3～5分鐘，后用無(wú)水乙醇進(jìn)行浸泡并超聲波清洗振蕩5分鐘，超聲波為30KHz；取出樣品用吹風(fēng)機(jī)吹干至樣品表面無(wú)明顯劃痕和殘余液漬；

步驟2：將振動(dòng)拋光機(jī)的拋光盤清洗干凈，將事先配制好的納米級(jí)SiO₂振動(dòng)拋光液均勻倒在拋光盤上，并將樣品利用2個(gè)砝碼負(fù)載加壓，小心放在拋光盤上，使待拋光面充分浸入SiO₂拋光液環(huán)境中，設(shè)置振動(dòng)拋光機(jī)的振幅amplitude為20％，振動(dòng)拋光為5小時(shí)；

步驟3：試樣振動(dòng)拋光完成，立即取出試樣并用蒸餾水沖洗后，再用無(wú)水乙醇沖洗干凈，用吹風(fēng)機(jī)吹干，觀察試樣表面為鏡面，有略微凸起枝晶即可。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備近等原子比Co-Ni-Al磁控形狀記憶合金電子背散射衍射試樣的方法，其特征在于步驟1中采用的金相研磨拋光機(jī)的型號(hào)為YMP-1。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備近等原子比Co-Ni-Al磁控形狀記憶合金電子背散射衍射試樣的方法，其特征在于步驟2中采用的振動(dòng)拋光機(jī)的型號(hào)為Buehler VibroMet^TM 2。