[發(fā)明專利]一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811049045.2
• 申請(qǐng)日: 2018-09-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108979754A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李潤(rùn)東;郭曾嘉;賀業(yè)光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沈陽(yáng)航空航天大學(xué)
• 主分類號(hào): F01D25/12
• 分類號(hào): F01D25/12
• 代理公司: 沈陽(yáng)維特專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 21229
• 代理人: 甄玉荃

1.一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)，包括射流孔板及射流靶板，所述的射流孔板上設(shè)有多個(gè)陣列排列的沖擊孔，所述射流孔板位于所述射流靶板的上部，射流靶板與射流孔板之間為空腔設(shè)計(jì)，其特征在于：所述射流靶板上設(shè)有多個(gè)擾流柱，所述是擾流柱為截面為異五邊形柱體，或者為截面近半橢圓的穹頂形設(shè)計(jì)柱體，或者為截面是水滴形狀設(shè)計(jì)柱體。

2.如權(quán)利要求1所述的一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的沖擊孔的直徑為D。

3.如權(quán)利要求1所述的一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述截面異五邊形設(shè)計(jì)的擾流柱的截面由一銳角等腰三角形底邊接一長(zhǎng)方形組成，截面三角形高為1.2D，截面長(zhǎng)方形側(cè)邊長(zhǎng)為0.2D，截面長(zhǎng)方形底邊長(zhǎng)為0.7D，擾流柱截面銳角邊正對(duì)來(lái)流方向，擾流柱的高度為2D。

4.如權(quán)利要求1所述的一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)，其特征在于：穹頂形擾流柱截面由半橢圓形接一長(zhǎng)方形組成，半橢圓的長(zhǎng)軸長(zhǎng)為D，短軸長(zhǎng)為0.3D，長(zhǎng)方形截面?zhèn)冗呴L(zhǎng)為0.2D，截面底邊長(zhǎng)為0.6D，擾流柱截面半橢圓形為迎流面，擾流柱截面半橢圓形的短軸正與來(lái)流方向垂直，擾流柱的高度為2D。

5.如權(quán)利要求1所述的一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述截面水滴形設(shè)計(jì)擾流柱截面的上、下兩端圓弧直徑分別為0.75D和0.56D，兩端圓弧圓心距離為0.7D，上、下兩端圓弧直徑弧度分別為200°和160°，擾流柱的高度為2D。

6.如權(quán)利要求1所述的一種陣列沖擊射流冷卻中的擾流結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述多個(gè)擾流柱與多個(gè)沖擊孔分別為順排布置，擾流柱的排與沖擊孔的排交錯(cuò)排列，每個(gè)擾流柱中心與其周圍的沖擊孔圓心的水平距離為2.5D。