[發(fā)明專利]SrCl2

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811047984.3
• 申請(qǐng)日: 2018-09-10
• 公開（公告）號(hào): CN109256494B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張宇;馬越;陸敏;于偉泳;張鐵強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吉林大學(xué)
• 主分類號(hào): H01L51/54
• 分類號(hào): H01L51/54;H01L51/50;H01L51/56;B82Y30/00
• 代理公司: 長(zhǎng)春吉大專利代理有限責(zé)任公司 22201
• 代理人: 劉世純;王恩遠(yuǎn)

1.一種SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光LED，其特征在于：采用ITO為陰極，ZnO量子點(diǎn)膜/聚乙烯亞胺雙層作為電子傳輸層和空穴阻擋層，SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)為發(fā)光層，“4,4,4”-三(咔唑-9-基)三苯胺作為空穴傳輸層和電子阻擋層，MoO₃/Au為陽(yáng)極；且該SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光LED的制備步驟如下，

(1)制備SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)溶液

將0.814g Cs₂CO₃、2.5mL OA和30.0mL ODE加入100mL三頸燒瓶中，脫氣并在120℃下真空干燥1小時(shí)，然后在N₂氣氛下將混合物加熱至150℃直至溶液澄清，制得油酸銫溶液備用；將10.0mL ODE、0.172g PbI₂、0.006g SrCl₂、1.0mL OA和1.0mL OLA裝入50mL三頸燒瓶中，脫氣并在120℃下真空下靜置1小時(shí)進(jìn)行干燥；溶液變澄清后，將溫度升高至170℃，迅速注入此前制備的1mL油酸銫溶液；反應(yīng)5秒鐘后，通過冰水浴將反應(yīng)混合物冷卻至室溫，以5000rpm的轉(zhuǎn)速離心10分鐘分離反應(yīng)混合物，然后將沉淀物再分散在3.0mL甲苯中并再次以10000rpm的轉(zhuǎn)速離心10分鐘，將所得沉淀物分散于1.0mL甲苯中，制備得到SrCl₂摻雜的CsPbI₃鈣鈦礦量子點(diǎn)溶液，其中加入SrCl₂與PbI₂的摩爾比為0.1：1，CsPbI₃量子點(diǎn)的濃度為20mg mL^-1；OA為油酸、ODE為1-十八烯、OLA為油胺；

(2)制備ZnO量子點(diǎn)的溶液

制備ZnO量子點(diǎn)溶液；將0.4403g乙酸鋅和30.0mL乙醇的混合物裝入250mL三頸燒瓶中，在室溫下脫氣10分鐘；然后將混合物加熱至沸騰直至乙酸鋅粉末完全溶解，30分鐘后，將燒瓶自然冷卻至室溫；將0.2g氫氧化鈉溶解在10mL乙醇中，并快速注入燒瓶中，保持反應(yīng)4小時(shí)；將得到的每5mL溶液加到一個(gè)50mL的離心管中并充分添加己烷，離心后將沉淀物溶解在3mL的乙醇中進(jìn)行純化，再重復(fù)一次上述純化過程，最終將得到的沉淀物溶于3mL乙醇中，制備得到ZnO量子點(diǎn)溶液，其中ZnO量子點(diǎn)的濃度是50mg mL^-1；

(3)清洗ITO玻璃，并將其表面進(jìn)行UV-臭氧處理10～20分鐘；

(4)將ZnO量子點(diǎn)溶液以800～1500rpm的速度旋涂在步驟(3)得到的ITO玻璃基底上1～3分鐘，并在20～180℃的空氣中退火8～15分鐘，在ITO玻璃基底上得到ZnO量子點(diǎn)膜；

(5)在N₂氣氛的手套箱中，將質(zhì)量分?jǐn)?shù)0.1～0.5％的聚乙烯亞胺的2-甲氧基乙醇溶液以800～1500rpm的速度旋涂到ZnO量子點(diǎn)膜上并在100～150℃下退火8～15分鐘，得到聚乙烯亞胺層；

(6)繼續(xù)在N₂氣氛的手套箱中，將步驟(1)制備的SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)溶液旋轉(zhuǎn)澆鑄在聚乙烯亞胺層上，得到SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光層；

(7)將步驟(6)得到的器件在真空條件下，通過熱蒸發(fā)，在SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光層上依次沉積“4,4,4”-三(咔唑-9-基)三苯胺作為空穴傳輸層和電子阻擋層，沉積MoO₃和Au膜作為陽(yáng)極，從而得到SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光LED。

2.如權(quán)利要求1所述的一種SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光LED，其特征在于：ZnO量子點(diǎn)膜層的厚度為40～50nm，聚乙烯亞胺層的厚度為10～20nm，SrCl₂摻雜的鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光層的厚度為60～75nm，“4,4,4”-三(咔唑-9-基)三苯胺空穴傳輸層和電子阻擋層的厚度為50～65nm，MoO₃厚度為70～100nm，Au厚度為10～20nm。