[發(fā)明專利]一種高精密硅基通孔掩膜版分體圖形結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811047914.8
• 申請日: 2018-09-10
• 公開（公告）號: CN109188858B
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 包文中;郭曉嬌;周鵬;張衛(wèi)
• 申請（專利權(quán)）人: 復(fù)旦大學(xué)
• 主分類號: G03F1/80
• 分類號: G03F1/80;G03F1/76;C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司 31200
• 代理人: 陸飛;陸尤

1.一種高精密硅基通孔掩膜版分體圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，以雙面拋光的硅片為基底，包括正面圖形和反面圖形；正面圖形包括從整體圖形中分離的帶有對準(zhǔn)標(biāo)記的高精度圖形和帶有對準(zhǔn)標(biāo)記的低精度圖形，或者為分別帶有對準(zhǔn)標(biāo)記多組不同精度的圖形；反面圖形為能覆蓋正面圖形的正方形、長方形、圓形、橢圓形或不規(guī)則的圖形，用于整體厚度減薄；通孔掩膜板在加工過程中，高精度圖形和低精度圖形先后使用，通過兩者相同的對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行位置對準(zhǔn)，來完成整體圖形的加工；

所述的正面圖形的形狀為對稱圖形，或者為非對稱圖形，其形狀根據(jù)要求任意設(shè)計；精度達(dá)到的硅通孔的最高精度尺寸；

所述的反面圖形與正面圖形中心重合；在正面圖形設(shè)計時，從整體圖形分離出高精度圖形和低精度圖形，將這兩類圖形分成兩組分立的圖形，其圖形分別包含對準(zhǔn)標(biāo)記，用于圖形組合時的對準(zhǔn)；或者，視掩膜版材料強(qiáng)度和圖形復(fù)雜度的不同，分離出的圖形為兩組或者兩組以上，每部分都含有對準(zhǔn)標(biāo)記，用于最后的組合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精密硅基通孔掩膜版分體圖形結(jié)構(gòu)，其特征在于，分離的圖形為不同精度的規(guī)則或不規(guī)則圖形任意組合成的圖形；或者為閉合環(huán)狀圖形，包括圓環(huán)、方環(huán)、三角形環(huán)或其他無規(guī)則閉合拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。