[發(fā)明專利]一種AMOLED面板

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811046313.5
• 申請日: 2018-09-07
• 公開（公告）號: CN109087937A
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周志偉;崔昇圭
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/52
• 代理公司: 深圳匯智容達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44238
• 代理人: 熊賢卿;潘中毅

本發(fā)明實施例公開了一種AMOLED面板，在其切割線與封裝薄膜邊界之間具有邊緣區(qū)域，所述邊緣區(qū)域從下至上依次包括：柔性襯底、緩沖層、第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層；所述AMOLED面板的邊緣區(qū)域具有防止無機膜裂紋擴(kuò)展的結(jié)構(gòu)，包括：至少一列設(shè)置于所述第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層中的有機物沉積圖案；至少一列設(shè)置有所述第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層至少一層中的金屬沉積圖案。實施本發(fā)明實施例，可以改善彎折過程中因裂紋擴(kuò)展引起畫質(zhì)異常等問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，特別涉及一種AMOLED面板。

背景技術(shù)

在AMOLED （Active-matrix organic light emitting diode，主動矩陣有機發(fā)光二極體）面板的生產(chǎn)中，通常是將大板通過激光切割形成需要尺寸規(guī)格的小板。一方面，由于面板邊緣的無機膜層在切割時會引起肉眼不可見的微裂紋，另一方面，因晶格在最邊緣位置突然終止而形成大量懸掛鍵與缺陷，因此，邊緣不穩(wěn)定區(qū)域通常會成為裂紋的起始位置。當(dāng)AMOLED面板在使用過程中進(jìn)行彎折時，存在于無機薄膜中的本征應(yīng)力以及來自薄膜對襯底的附著力等非本征應(yīng)力會不斷促使微裂紋的進(jìn)一步擴(kuò)展，在數(shù)以萬計的重復(fù)彎折下，當(dāng)具有本征脆性及較多缺陷態(tài)的無機封裝薄膜發(fā)生脆裂時，大氣中的水與氧氣便會入侵。水氧的入侵不僅會與發(fā)光層有機物發(fā)生氧化作用而生成羰基化合物，也會與OLED器件的陰極材料當(dāng)中的堿金屬或堿土金屬發(fā)生電化學(xué)腐蝕，在顯著降低發(fā)光量子效率的同時，也會因發(fā)光材料變質(zhì)而形成大量黑點缺點，極大影響器件壽命。

如圖1所示，示出了現(xiàn)有的一種AMOLED面板平面結(jié)構(gòu)示意圖；從中可以看出，所述AMOLED面板依次排布有切割線區(qū)1’、面板邊緣區(qū)3’、封裝薄膜邊緣區(qū)2’、GOA驅(qū)動電路及布線區(qū)4’以及顯示區(qū)5’。在面板經(jīng)過多次彎折后，切割區(qū)的裂紋會向GOA驅(qū)動電路及布線區(qū)4’以及顯示區(qū)5’擴(kuò)展。一并參見圖2中的剖面圖，在AMOLED面板的面板邊緣區(qū)3’，從下至上依次排布有柔性襯底30’、緩沖層31’、第一無機絕緣層32’、第二無機絕緣層33’以及第一層間介質(zhì)層34’；為了減緩裂紋向板內(nèi)擴(kuò)展，可以在面板切割線邊緣位置設(shè)計一道阻擋結(jié)構(gòu)6’，但是，該種僅存在一些不足之處，即僅設(shè)置該阻擋結(jié)構(gòu)6’難以防止不同頻率、成千上萬次彎折所帶來的微裂紋的迅速擴(kuò)展，另一方面，由于該阻擋結(jié)構(gòu)6’距離切割線位置過近，極易因過切而引起該阻擋結(jié)構(gòu)6’的破壞而徹底失去裂紋防止的作用。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種AMOLED面板，其中設(shè)置有防止無機膜裂紋擴(kuò)展的結(jié)構(gòu)，通過在AMOLED面板邊緣區(qū)域中集成不同的圖形化結(jié)構(gòu)，改善彎折過程中因裂紋擴(kuò)展引起畫質(zhì)異常等問題，最終實現(xiàn)目標(biāo)次數(shù)下動態(tài)彎折的正常顯示。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的實施例的一方面提供一種AMOLED面板，在其切割線與封裝薄膜邊界之間具有邊緣區(qū)域，所述邊緣區(qū)域從下至上依次包括：柔性襯底、緩沖層、第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層；其特征在于，在所述邊緣區(qū)域中設(shè)置有一防止無機膜裂紋擴(kuò)展的結(jié)構(gòu)，所述結(jié)構(gòu)包括：

至少一列設(shè)置于所述第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層中的有機物沉積圖案；

至少一列設(shè)置有所述第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層至少一層中的金屬沉積圖案。

其中，所述有機物沉積圖案靠近所述切割線一側(cè)，所述金屬沉積圖案靠近所述封裝薄膜一側(cè)。

其中，在所述有機物沉積圖案之上進(jìn)一步設(shè)置有第二層間介質(zhì)層，所述第二層間介質(zhì)層覆蓋所有有機物沉積圖案。

其中，所述每一列有機物沉積圖案均與所述切割線平行，其包括多個貫通所述第一無機絕緣層、第二無機絕緣層以及第一層間介質(zhì)層的沉積孔，在所述沉積孔中填充有有機物；