[發(fā)明專利]用戶氣質(zhì)確定方法及裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811045713.4
• 申請日: 2018-09-07
• 公開（公告）號: CN109255328A
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設計）人: 張紅松;鄭冬青;張亮;蘇慶瑞;張靖邦
• 申請（專利權）人: 北京相貌空間科技有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 吳迪

1.一種用戶氣質(zhì)確定方法，其特征在于，包括：

獲取用戶的二維臉部圖像；

將二維臉部圖像輸入至特征識別模型，以確定臉部特征點；

根據(jù)臉部特征點計算人臉特征信息；

根據(jù)人臉特征信息確定用戶的氣質(zhì)。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟獲取用戶的二維臉部照片包括：

獲取三維臉部圖像；三維臉部圖像是使用三維掃描裝置對用戶的臉部進行掃描得到的；

對三維臉部圖像進行指定角度的映射，以確定二維臉部圖像；所述二維臉部圖像包括以下的任意一種或多種圖像：正臉圖像、90°側(cè)臉圖像和45°側(cè)臉圖像。

3.根據(jù)權利要求2所述的方法，其特征在于，臉部特征點包括以下的任意一個或多個特征群組：正臉特征群組、90°側(cè)臉特征群組和45°側(cè)臉特征群組；

正臉特征群組包括以下的任意一個或多個特征點群組：外輪廓點群組、正眼部點群組、鼻部點群組和嘴部點群組；

90°側(cè)臉特征群組包括以下的任意一個或多個特征點群組：

側(cè)輪廓點群組、側(cè)眼部點群組和耳部點群組；

45°側(cè)臉特征群組包括以下的任意一個或多個特征點群組：

斜輪廓點群組；

外輪廓點群組包括以下任意一個或多個特征點：

額中點、左額角水平外延點、右額角水平外延點、左鬢角凸點、右鬢角凸點、左鬢角凹點、右鬢角凹點、左顴骨高點、右顴骨高點、左顴骨下緣點、右顴骨下緣點、左頜角點、右頜角點和頦底點；

正眼部點群組包括以下任意一個或多個特征點：

左上眉頭起點、右上眉頭起點、左眉尾點、右眉尾點、左上眼眶頂點、右上眼眶頂點、左眼內(nèi)眥點、右眼內(nèi)眥點、左上瞼緣頂點、右上瞼緣頂點、左眼外眥點、右眼外眥點、左下瞼緣底點和右下瞼緣底點；

鼻部點群組包括以下任意一個或多個特征點：

印堂點、左鼻翼寬點、右鼻翼寬點、左鼻孔頂點、右鼻孔頂點和鼻唇角點；

嘴部點群組包括以下任意一個或多個特征點：

唇谷點、左唇角點、右唇角點、下唇底點、唇珠中點和下內(nèi)唇中點；

側(cè)輪廓點群組包括以下任意一個或多個特征點：

側(cè)額中點、側(cè)下額過度點、側(cè)額末點、側(cè)印堂點、側(cè)鼻山根點、側(cè)鼻梁起點、側(cè)鼻梁高點、側(cè)鼻頭起點、側(cè)鼻頭頂點、側(cè)鼻孔頂點、側(cè)鼻小柱中點、側(cè)鼻唇角點、側(cè)人中中點、側(cè)上唇沿頂點、側(cè)下唇下拐點、側(cè)頦唇溝凹點、側(cè)頦過度點、側(cè)頦下緣點、側(cè)頸顎拐點；

側(cè)眼部點群組包括以下任意一個或多個特征點：

側(cè)眼眶頂點、側(cè)上瞼外緣頂點、側(cè)下瞼外緣底點、側(cè)鼻基底點和側(cè)嘴角點；

耳部點群組包括以下任意一個或多個特征點：

側(cè)對耳輪下腳緣點和側(cè)耳垂底點；

斜輪廓點群組包括以下任意一個或多個特征點：

斜上顴點、斜顴骨拐點、斜顴骨過渡點、斜蘋果肌高點、斜內(nèi)面頰起點、斜內(nèi)面頰點、斜內(nèi)面頰末點和斜頦起點。

4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其特征在于，人臉特征信息包括以下的任意一個或多個特征信息：

正臉特征信息、90°側(cè)臉特征信息和45°側(cè)臉特征信息；

正臉特征信息包括以下的任意一個或多個：

臉部長寬比、上庭長度、額面寬、顳寬、顴寬、外面頰飽滿度、頜寬、下庭長度、下頦長度、對稱度、五官分布評價值、眉尾長、眉揚角、眉間距、眉眼間距、眼長、眼裂大小、眼大小、眼揚角、眼間距、中庭長度、鼻翼寬度、鼻孔裸露程度、人中長度、唇分線、唇揚角、唇閉合度、嘴大小、上唇薄厚、下唇薄厚、頜骨結構評價值；

90°側(cè)臉特征信息包括以下的任意一個或多個：

額前傾度、額部飽滿度、印堂高度、眼凸度、鼻根高度、鼻根形態(tài)、鼻梁形態(tài)、鼻頭高度、鼻基底高、鼻唇角、上唇凸癟、下唇凸癟、下頦翹度、下頦前傾度、下頜緣清晰度、頜骨結構評價值；

45°側(cè)臉特征信息包括以下的任意一個或多個：

顴骨高度、蘋果肌飽滿度、內(nèi)面頰飽滿度。