[發明專利]一種反應釜清洗系統及清洗方法

在審

• 申請號: 201811045645.1
• 申請日: 2018-09-07
• 公開（公告）號: CN109225097A
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 鄧磊
• 申請（專利權）人: 佛山市科順建筑材料有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;B01J19/14;B08B9/093;C08G18/08
• 代理公司: 廣州潤禾知識產權代理事務所(普通合伙) 44446
• 代理人: 張柳;楊釗霞

1.一種反應釜清洗系統，包括溶劑儲倉（1），所述溶劑儲倉（1）設有入倉口，所述入倉口通過管道與所述反應釜（3）的底部的出料口連通；所述溶劑儲倉（1）的下部設置有出倉口，所述出倉口通過管道與所述反應釜（3）的頂部的進料口連通，所述入倉口和所述出料口之間設有第一輸送泵（6），所述出倉口與進料口之間設有第二輸送泵（5），其特征在于，所述溶劑儲倉（1）還設有投料口，所述溶劑儲倉（1）的出倉口還通過管道與入倉口連通；所述出倉口與進料口之間還設有第二過濾器（4），所述第二過濾器（4）和所述第二輸送泵（5）還位于所述出倉口和所述入倉口之間。

2.根據權利要求1所述的反應釜清洗系統，其特征在于，所述溶劑儲倉（1）和所述反應釜（3）都設有N₂入口。

3.根據權利要求1所述的反應釜清洗系統，其特征在于，所述溶劑儲倉（1）的容量為溶劑儲倉（1）所配套的反應釜容量之和的1.1~1.5倍。

4.根據權利要求1所述的反應釜清洗系統，其特征在于，所述溶劑儲倉（1）設有攪拌槳，所述攪拌槳的槳葉的直徑是溶劑儲倉（1）直徑的0.05~0.95倍。

5.根據權利要求3所述的反應釜清洗系統，其特征在于，所述攪拌槳底部設有刮底部分。

6.根據權利要求1~5任一項所述的反應釜清洗系統，其特征在于，所述入倉口和所述出料口之間還設有第一過濾器（2）。

7.一種反應釜的清洗方法，其特征在于，采用根據權利要求1~6任一項所述的反應釜清洗系統，且包括以下步驟：當溶劑儲倉（1）中的溶劑清洗完反應釜（3）后回到溶劑儲倉（1）中，從投料口中投入能與活性基團-NCO反應的反應物。

8.根據權利要求7所述的反應釜的清洗方法，其特征在于，所述反應物選用胺類、環氧類或小分子多羥基物質。

9.根據權利要求7所述的反應釜的清洗方法，其特征在于，還包括以下步驟：投入反應物后，開啟攪拌槳攪拌，攪拌1.5~3h后，關閉入料口的閥門，打開入倉口的閥門，開啟第一輸送泵，使溶劑在溶劑儲倉（1）中循環，將溶劑中的廢渣通過第一過濾器分離出來。

10.根據權利要求7所述的反應釜的清洗方法，其特征在于，在溶劑由溶劑儲倉（1）泵送至反應釜（3）中清洗反應釜（3），在清洗完成后再泵送回到溶劑儲倉（1）這整個過程中，溶劑儲倉（1）和反應釜（3）中都通入N₂。