[發明專利]一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法在審
| 申請號: | 201811045291.0 | 申請日: | 2018-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN110890458A | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發明(設計)人: | 葉力;戴瑾 | 申請(專利權)人: | 上海磁宇信息科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L43/08 | 分類號: | H01L43/08;H01L43/12;G11C11/16 |
| 代理公司: | 上海容慧專利代理事務所(普通合伙) 31287 | 代理人: | 于曉菁 |
| 地址: | 201800 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 磁性 隨機 存儲器 寫入 效率 方法 | ||
1.一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述磁性隨機存儲器包括控制電路和存儲單元陣列,所述存儲單元由磁性隧道結和NMOS場效應管組成,所述存儲單元通過字線、位線以及源線與所述控制電路連接;所述位線包含磁性層。
2.根據權利要求1所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述磁性層選用3d過渡族磁性合金材料。
3.根據權利要求1所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述位線還包括導電金屬層。
4.根據權利要求1所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述位線和所述源線平行或垂直。
5.根據權利要求1所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述位線的磁化方向平行于位線的走線方向,并且垂直于所述磁性隧道結中的記憶層的磁矩。
6.根據權利要求1所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,制作所述磁性隨機存儲器至少包括如下步驟:
步驟一、在基底上制作所述磁性隧道結;
步驟二、在所述磁性隧道結周圍沉積保護層;
步驟三、在所述保護層上填充電介質層;
步驟四、在所述電介質層中刻蝕產生位線線槽;
步驟五、在所述位線線槽內填充永久磁化材料,制作所述磁性層;
步驟六:在所述位線線槽內填充導電金屬;
步驟七、磨平所述導電金屬的表面,所述位線制作完成。
7.根據權利要求6所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述導電金屬選用銅、鋁、銅鋁合金或鎢。
8.根據權利要求6所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,通過外加磁場初始化設置所述磁性層的磁矩方向。
9.根據權利要求6所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,在所述位線和所述磁性隧道結的記憶層之間設置非磁性隔離層,所述隔離層厚度應處于自旋平均自由程內。
10.根據權利要求9所述的一種提高磁性隨機存儲器寫入效率的方法,其特征在于,所述隔離層選用鋁、銅或鎢。
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