[發(fā)明專利]一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811045206.0 | 申請日: | 2018-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN109055917B | 公開(公告)日: | 2020-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 訾威;陸曉曼;耿曉菊;劉江峰;涂友超 | 申請(專利權(quán))人: | 信陽師范學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513;C23C16/52 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 徐文權(quán) |
| 地址: | 464000 *** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 雙面 鍍膜 等離子體 化學(xué) 沉積 系統(tǒng) | ||
1.一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,包括腔室(2-5)和電極切換裝置(2-7);腔室(2-5)內(nèi)的上部設(shè)置有穿出腔室(2-5)上表面的上電極(2-1),腔室(2-5)內(nèi)的下部設(shè)置有穿出腔室(2-5)下表面的下電極(2-2);電極切換裝置(2-7)內(nèi)設(shè)置有上電極接觸頭(2-10)、射頻電源線接觸頭(2-11)、下電極接觸頭(2-12)和接地接觸頭(2-13);上電極接觸頭(2-10)和上電極(2-1)連通,下電極接觸頭(2-12)和下電極(2-2)連接;射頻電源線接觸頭(2-11)連通有射頻電源(2-8),接地接觸頭(2-13)接地(2-9);
在腔室(2-5)內(nèi)的沉積樣品(2-3)鍍膜過程中,電極切換裝置(2-7)內(nèi)的上電極接觸頭(2-10)和射頻電源線接觸頭(2-11)連通時,下電極接觸頭(2-12)和接地接觸頭(2-13)連通,沉積樣品(2-3)的上表面鍍膜;電極切換裝置(2-7)內(nèi)的下電極接觸頭(2-12)和射頻電源線接觸頭(2-11)連通時,上電極接觸頭(2-10)和接地接觸頭(2-13)連通,沉積樣品(2-3)的下表面鍍膜;
上電極(2-1)和上電極接觸頭(2-10)通過射頻線(2-6)連通;下電極(2-2)和下電極接觸頭(2-12)通過射頻線(2-6)連通;
上電極接觸頭(2-10)、射頻電源線接觸頭(2-11)、下電極接觸頭(2-12)和接地接觸頭(2-13)均通過公母插頭結(jié)構(gòu)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,上電極接觸頭(2-10)、射頻電源線接觸頭(2-11)、下電極接觸頭(2-12)和接地接觸頭(2-13)均為導(dǎo)電材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,導(dǎo)電材料選用銅、銀或金。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,上電極接觸頭(2-10)和下電極接觸頭(2-12)固定安裝有公頭結(jié)構(gòu);射頻電源線接觸頭(2-11)和接地接觸頭(2-13)固定安裝有母頭結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,公母插頭通過手動的方式連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項所述的一種單室雙面鍍膜等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,上電極(2-1)和下電極(2-2)為對稱結(jié)構(gòu),電極的結(jié)構(gòu)和材料均相同。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





