[發(fā)明專利]一種氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811041056.6
• 申請日: 2018-09-07
• 公開（公告）號: CN110890259A
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發(fā)明（設計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 余明偉

本發(fā)明提供一種氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)及方法，該內漏監(jiān)測系統(tǒng)包括，噴頭，所述噴頭包括相互獨立的多個待監(jiān)測區(qū)；分流器，所述分流器的入口與工藝主氣相連，所述分流器包括多個出口；多個輸氣管道，每個所述出口分別通過每條所述輸氣管道與每個所述待監(jiān)測區(qū)相連通；多個壓力監(jiān)測裝置，每個所述壓力監(jiān)測裝置分別與每個所述待監(jiān)測區(qū)連通以監(jiān)測每個所述待監(jiān)測區(qū)的壓力。利用本發(fā)明，通過在機臺的氣體分配盤的分流器的氣體出口處加裝壓力監(jiān)測裝置，可實時監(jiān)測生產(chǎn)過程中機臺的氣體分配盤內部不同獨立待監(jiān)測區(qū)中的壓力，即時根據(jù)待監(jiān)測區(qū)中的壓力波動發(fā)現(xiàn)氣體分配的內漏，進行維護，降低產(chǎn)品廢率。

技術領域

本發(fā)明涉及一種半導體制造領域，特別是涉及一種氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)及方法。

背景技術

在半導體制造的等離子體刻蝕工藝過程中，需要對反應氣體進行離子化產(chǎn)生等離子體。一般情況下，等離子體都需要在減壓氣氛下產(chǎn)生及進行工藝，例如對晶片上的膜層產(chǎn)生蝕刻。在這些工藝中，蝕刻機臺反應腔室內的氣流、壓強等參數(shù)對工藝效果有顯著的影響，因此，對這些參數(shù)的控制就尤為重要。而氣體分配盤作為蝕刻機臺的主要部件之一，對工藝的均勻性影響較大。現(xiàn)有的氣體分配盤一般都被劃分成若干區(qū)域，需要分別對不同區(qū)域進行單獨供氣，以滿足半導體工藝中對均勻性的要求。

以TEL(Tokyo Electron Ltd，日本東京電子公司)刻蝕設備MK/RK系列為例進行說明，TEL刻蝕設備MK/RK系列的氣體分配采用S-RDC(Selectable Radical DistributionControl)方式，工藝氣體經(jīng)氣體分配盤分流后經(jīng)氣體分配盤的三個區(qū)注入到反應腔體中，氣體分配盤的三個區(qū)域使用C型O-Ring隔離成獨立的空間。一般地，根據(jù)工藝需求，各區(qū)域中氣體的供應量是不一樣的，三個區(qū)域中的壓力也不同，如果O-Ring裝反或者老化就會導致氣體分配盤內部泄漏，這就會導致氣體分配盤中內漏所在區(qū)域中的氣體供應異常，注入到反應腔體中的氣體的分布偏離預設值，從而影響蝕刻的均勻性，現(xiàn)有的S-RDC供氣方式無法實時監(jiān)測氣體分配盤的內漏，這就會導致大量產(chǎn)品的報廢。

因此，尋找一種能有效監(jiān)測氣體分配盤內漏的系統(tǒng)及方法，成為本領域技術人員亟需解決的一個重要技術問題。

發(fā)明內容

鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)及方法，用于解決現(xiàn)有技術中機臺的氣體分配盤中無壓力監(jiān)測裝置，無法實時監(jiān)測氣體分配盤中內漏情況，導致大量產(chǎn)品報廢的問題。

為實現(xiàn)上述目的及其它相關目的，本發(fā)明提供一種氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)，包括：

噴頭，包括相互獨立的多個待監(jiān)測區(qū)；

分流器，所述分流器的入口與工藝主氣相連，所述分流器包括多個出口；

多個輸氣管道，每個所述出口分別通過每條所述輸氣管道與每個所述待監(jiān)測區(qū)相連通；

多個壓力監(jiān)測裝置，每個所述壓力監(jiān)測裝置分別與每個所述待監(jiān)測區(qū)連通以監(jiān)測每個所述待監(jiān)測區(qū)的壓力。

作為對本發(fā)明上述氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)的改進，所述噴頭包括一夾板，安裝固定于所述夾板下表面的一電極板，以及設置于所述夾板和所述電極板之間若干墊圈；所述墊圈將所述噴頭隔絕成相互獨立的多個所述待監(jiān)測區(qū)。

作為對本發(fā)明上述氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)的改進，所述夾板上設置有貫穿其上下表面的復數(shù)個第一氣體噴射孔，其中，每個所述待監(jiān)測區(qū)對應的所述夾板部分至少包括一個所述第一氣體噴射孔；所述電極板上設置有貫穿其上下表面的復數(shù)個第二氣體噴射孔，其中，每個所述待監(jiān)測區(qū)對應的所述電極板部分至少包括一個所述第二氣體噴射孔。

作為對本發(fā)明上述氣體分配盤的內漏監(jiān)測系統(tǒng)的改進，所述夾板上設置有若干環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽用于放置所述墊圈。