[發明專利]表面帶有鍍層的貴金屬制品及其制備方法

在審

• 申請號: 201811037293.5
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN109097736A
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發明（設計）人: 王彤;唐雙喜
• 申請（專利權）人: 深圳市聯合藍海科技開發有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/35;C23C14/32
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 劉依云;喬雪微

1.一種貴金屬制品，其特征在于，該貴金屬制品包括：貴金屬基體(1)和附著在所述貴金屬基體(1)上的透明膜層(2)，所述貴金屬為黃金或銀。

2.根據權利要求1所述的貴金屬制品，其中，所述黃金中黃金的含量為33-99.99重量％，優選為99-99.99重量％；所述銀中銀的含量為92.5-99重量％；

優選地，所述貴金屬基體(1)的表面粗糙度為0.001-50μm，優選為0.005-0.1μm。

3.根據權利要求1所述的貴金屬制品，其中，所述透明膜層(2)的厚度為0.0001-10μm，優選為0.0005-0.1μm；

優選地，所述透明膜層(2)的材質為氟化物；

優選地，所述氟化物為AF藥丸。

4.權利要求1-3中任意一項所述的貴金屬制品的制備方法，其特征在于，該方法包括：采用物理氣相沉積在貴金屬基體(1)的表面上沉積透明膜層(2)。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，該方法還包括在貴金屬基體(1)的表面上沉積透明膜層(2)之前先進行爐內抽真空過程，其中，在爐內抽真空過程中的真空度為1×10^-2Pa至7×10^-3Pa。

6.根據權利要求4所述的方法，其中，所述物理氣相沉積的方式為真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜或真空離子鍍膜；

優選地，所述物理氣相沉積的方式為真空蒸發鍍膜。

7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述真空蒸發鍍膜的方式包括：在蒸發源電流為700-750A的條件下蒸發170-190s；再在蒸發源電流為750-800A的條件下蒸發170-190s；然后在蒸發源電流為800-900A的條件下蒸發410-430s。

8.根據權利要求4-7中任意一項所述的方法，其中，所述方法還包括在所述物理氣相沉積之前進行輝光清洗，其中，所述輝光清洗的條件包括：氬氣流量為100-320sccm，加載偏壓為380-1000V，占空比為10-80％，時間為160-720s。

9.根據權利要求4-8中任意一項所述的方法，其中，所述方法還包括將所述貴金屬基體(1)的表面進行清洗，清洗的方式為：將貴金屬基體(1)在20-30kHz的條件下超聲洗滌1-15min，和/或，采用無塵布蘸95-98重量％的酒精擦試清潔。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，所述方法還包括對超聲處理后的貴金屬基體(1)進行烘干，烘干溫度為100-150℃，烘干時間為5-30min。