[發明專利]顯示面板及其制造方法、顯示裝置在審
| 申請號: | 201811037109.7 | 申請日: | 2018-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN109148730A | 公開(公告)日: | 2019-01-04 |
| 發明(設計)人: | 姜博;朱海彬;黃清雨 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 劉小鶴 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射電極層 顯示面板 透明電極層 襯底基板 顯示裝置 照射 有機發光層 層疊設置 出光效率 顯示圖像 凹凸狀 透射 反射 制造 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括:
層疊設置在襯底基板上的反射電極層、有機發光層和透明電極層,所述反射電極層用于將照射至所述反射電極層遠離所述襯底基板的表面的光進行反射,所述透明電極層用于將照射至所述透明電極層的光進行透射;
其中,所述反射電極層遠離所述襯底基板的表面呈凹凸狀。
2.根據權利要求或1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:第一電極層和第二電極層;
所述第一電極層設置在所述反射電極層與所述襯底基板之間,所述第二電極層設置在所述反射電極層與所述有機發光層之間,所述第一電極層和所述第二電極層用于對所述反射電極層形成抗氧化保護。
3.根據權利要求1或2所述的顯示面板,其特征在于,所述反射電極層遠離所述襯底基板的表面設置有多個凹點和多個凸點,
所述反射電極層靠近所述襯底基板的表面到所述凹點的距離為:50納米至1000納米;
所述凹點與所述凸點的高度差為:200納米至1000納米;
相鄰凸點的間距為:500納米至20微米。
4.一種顯示面板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一襯底基板;
在所述襯底基板上形成反射電極層,所述反射電極層用于將照射至所述反射電極層遠離所述襯底基板的表面的光進行反射,所述反射電極層遠離所述襯底基板的表面呈凹凸狀;
在形成有所述反射電極層的襯底基板上形成有機發光層;
在形成有所述有機發光層的襯底基板上形成透明電極層,所述透明電極層用于將照射至所述透明電極層的光進行透射。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,
在所述襯底基板上形成反射電極層之前,所述方法還包括:
在所述襯底基板上形成第一電極層,所述第一電極層用于對所述反射電極層形成抗氧化保護;
所述在所述襯底基板上形成反射電極層,包括:
在形成有所述第一電極層的襯底基板上形成所述反射電極層;
在所述襯底基板上形成反射電極層之后,所述方法還包括:
在形成有所述反射電極層的襯底基板上形成第二電極層,所述第二電極層用于對所述反射電極層形成抗氧化保護;
所述在形成有所述反射電極層的襯底基板上形成有機發光層,包括:
在形成有所述第二電極層的襯底基板上形成所述有機發光層。
6.根據權利要求4或5所述的方法,其特征在于,在所述襯底基板上形成反射電極層,包括:
在所述襯底基板上形成反射電極薄膜層;
對所述反射電極薄膜層進行加熱,其中,對所述反射電極薄膜層進行加熱的加熱溫度大于所述反射電極薄膜層的玻璃化轉變溫度;
將壓制模具壓入所述反射電極薄膜層,使得所述反射電極薄膜層遠離所述襯底基板的表面呈所述凹凸狀;
對所述反射電極薄膜層進行降溫;
在所述反射電極薄膜層的溫度低于所述玻璃化轉變溫度后,去除所述壓制模具,得到所述反射電極層。
7.根據權利要求4或5所述的方法,其特征在于,在所述襯底基板上形成反射電極層,包括:
在所述襯底基板上形成反射電極薄膜層;
在形成有所述反射電極薄膜層的襯底基板上形成光刻膠圖案;
對表面形成有所述光刻膠圖案的反射電極薄膜層進行刻蝕,以使所述反射電極薄膜層遠離所述襯底基板的表面呈所述凹凸狀,得到所述反射電極層;
剝離所述光刻膠圖案。
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H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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