[發明專利]一種利用雙饋源產生毫米波貝塞爾波束的裝置有效
| 申請號： | 201811036786.7 | 申請日： | 2018-09-06 |
| 公開（公告）號： | CN109273864B | 公開（公告）日： | 2020-12-11 |
| 發明（設計）人： | 劉喆;張德海 | 申請（專利權）人： | 中國科學院國家空間科學中心 |
| 主分類號： | H01Q19/06 | 分類號： | H01Q19/06 |
| 代理公司： | 北京方安思達知識產權代理有限公司 11472 | 代理人： | 陳琳琳;楊青 |
| 地址： | 100190 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 饋源 產生 毫米波 貝塞爾 波束 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用雙饋源產生貝塞爾波束的裝置，其特征在于，所述裝置包括：位于一個平面上的兩個相同的饋源和一個透鏡；兩個饋源的出射面的幾何中心與透鏡焦點的距離相等，所述兩個饋源均為介質棒天線，用于將產生的兩束高斯波束入射到透鏡上，所述透鏡用于輸出貝塞爾波束；
所述饋源的出射面的幾何中心與透鏡焦點的距離為5mm；
所述饋源與透鏡的豎直距離大于100mm；所述饋源與透鏡的豎直距離為高斯波束中心點到饋源口面的距離S與高斯波束中心點到透鏡的距離S1的和；所述高斯波束中心點到饋源口面的距離S的計算過程為：利用所需饋源的遠場方向圖，得到饋源的3dB方位角θ，在滿足饋源發出的高斯波束束腰半徑ω01≥0.9λ條件下，λ為該頻率下的波長，求出高斯波束中心點到饋源口面的距離S：
ω01為天線方向圖遠場增益3dB波束半徑的1.18倍，所述裝置產生的貝塞爾波束的最大傳輸距離大于200mm；
所述透鏡的口徑D滿足：D≥3ω，其中，ω為透鏡入射面的高斯波束束腰半徑：
所述透鏡的厚度T為：
其中，R(S1)為高斯波束入射至透鏡口面的曲率半徑：
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