[發明專利]雙載臺曝光機

有效

• 申請號: 201811036674.1
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN110174820B
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 張鴻明
• 申請（專利權）人: 川寶科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所(普通合伙) 11276
• 代理人: 劉云貴

1.一種雙載臺曝光機，其特征在于，所述雙載臺曝光機包括：

輸送裝置，其包括機座、第一傳送機構以及第二傳送機構，所述機座內部的兩側分別設有相對向的第一帶動單元及第二帶動單元，所述第一傳送機構具有第一座體、第一升降單元及第一承載單元，所述第一座體設于所述第一帶動單元，所述第一升降單元設于所述第一座體的一面，所述第一承載單元設于所述第一升降單元，所述第二傳送機構具有第二座體、第二升降單元及第二承載單元，所述第二座體設于所述第二帶動單元，所述第二升降單元設于所述第二座體的一面，所述第二承載單元設于所述第二升降單元；

所述第一座體的另一面具有一第一滑槽，所述第一滑槽活動結合所述第一帶動單元；所述第二座體的另一面具有一第二滑槽，所述第二滑槽活動結合所述第二帶動單元；

光源產生裝置，其設于所述輸送裝置一側的上方；以及

送料裝置，其設于所述輸送裝置的另一側。

2.根據權利要求1所述的雙載臺曝光機，其特征在于，所述機座外側具有蓋板。

3.根據權利要求1所述的雙載臺曝光機，其特征在于，所述第一帶動單元與所述第二帶動單元為線性馬達。

4.根據權利要求1所述的雙載臺曝光機，其特征在于，所述光源產生裝置包括機箱、曝光機構以及對位機構，所述機箱與所述輸送裝置結合，所述曝光機構設于所述機箱中，且所述第一傳送機構以及所述第二傳送機構可移動至對應所述曝光機構的位置。

5.根據權利要求4所述的雙載臺曝光機，其特征在于，所述對位機構具有多數個影像截取單元及調整單元。

6.根據權利要求1所述的雙載臺曝光機，其特征在于，所述送料裝置包括機箱、進料機構以及出料機構，所述機箱與所述輸送裝置結合，所述進料機構與所述出料機構設于所述機箱中，且所述機座位于所述進料機構與所述出料機構之間。