[發明專利]一種負氫離子的生成裝置及方法

有效

• 申請號: 201811036349.5
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN109195298B
• 公開（公告）日: 2020-03-03
• 發明（設計）人: 劉巍;趙永濤
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 張海青

1.一種負氫離子的生成裝置，其特征在于，所述負氫離子的生成裝置包括：一個擴散腔室，所述擴散腔室下部設置有出氣口，所述擴散腔室上部設置有多個放電腔室，每個所述放電腔室上設置有進氣口，每個所述放電腔室的外部纏繞有射頻線圈，所述射頻線圈的數量與所述放電腔室的數量相同，第i個所述射頻線圈纏繞在第i個所述放電腔室的外部，i∈{2,3,...,n}，n為所述射頻線圈和所述放電腔室的數量，n>1；

所述負氫離子的生成裝置還包括射頻信號單元和脈沖控制信號單元，所述脈沖控制信號單元用于調節所述射頻信號單元中各射頻信號的相位；

利用脈沖信號來調節射頻信號生成脈沖調制射頻信號，將所述脈沖調制射頻信號輸入到所述射頻線圈中，所述脈沖調制射頻信號滿足條件：

式中，n為所述射頻線圈和所述放電腔室的數量，n>1；D為所述脈沖調制射頻信號中脈沖的占空比；t₁為第i個所述脈沖調制射頻信號的起始時刻，i∈{2,3,...,n}；t₂為第i個所述脈沖調制射頻信號的結束時刻，T為所述脈沖調制射頻信號的周期長度；第i個所述射頻線圈中輸入第i個所述脈沖調制射頻信號；通過所述放電腔室上的所述進氣口分別向每個所述放電腔室通入氫氣；所述脈沖調制射頻信號產生的射頻功率與所述氫氣進行輝光放電反應，在所述擴散腔室中產生負氫離子；所述負氫離子通過所述擴散腔室的所述出氣口引出；

脈沖調制射頻信號利用鎖相技術進行相位的固定，構成多源異相脈沖調制射頻信號。

2.根據權利要求1所述的負氫離子的生成裝置，其特征在于，所述放電腔室為石英或者陶瓷材質。

3.根據權利要求1所述的負氫離子的生成裝置，其特征在于，所述擴散腔室為不銹鋼材質或鋁材質。

4.根據權利要求1所述的負氫離子的生成裝置，其特征在于，所述放電腔室與所述擴散腔室通過高真空密封連接。

5.根據權利要求1所述的負氫離子的生成裝置，其特征在于，所述出氣口對稱分布在所述擴散腔室底部。

6.根據權利要求1所述的負氫離子的生成裝置，其特征在于，所述進氣口與流量計連接。