[發明專利]色度塊預測方法以及設備在審
| 申請號: | 201811035923.5 | 申請日: | 2018-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN110881126A | 公開(公告)日: | 2020-03-13 |
| 發明(設計)人: | 馬祥;楊海濤;陳建樂 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | H04N19/186 | 分類號: | H04N19/186;H04N19/593;H04N19/117;H04N19/132;H04N19/176;H04N19/625;H04N19/124;H04N19/61;H04N19/44;H04N19/96;H04N19/91;H04N19/13;H04N19/70 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 色度 預測 方法 以及 設備 | ||
1.一種色度塊預測方法,其特征在于,所述方法包括:
解析碼流獲得第一指示信息,所述第一指示信息用于指示濾波器類型;
根據所述濾波器類型對應的濾波器,對第一亮度塊進行下采樣操作,獲得第二亮度塊,所述第一亮度塊是當前色度塊對應的亮度塊;
獲取模板色度點和模板亮度點,所述模板色度點包括所述當前色度塊相鄰的多個色度像素點,所述模板亮度點通過對所述第一亮度塊相鄰的多個亮度像素點進行下采樣操作獲得;
根據所述模板色度點和所述模板亮度點,獲得線性模型系數;
根據所述第二亮度塊和所述線性模型系數,獲得所述當前色度塊的預測值。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取模板亮度點,包括:
利用所述濾波器類型對應的濾波器,對所述第一亮度塊相鄰的多個亮度像素點進行下采樣操作,獲得所述模板亮度點。
3.根據權利要求1-2任一項所述的方法,其特征在于,所述模板色度點具體包括:
所述當前色度塊相鄰左邊一列或者左邊多列的色度像素點。
4.根據權利要求1-2任一項所述的方法,其特征在于,所述模板色度點具體包括:
所述當前色度塊相鄰上邊一列或者上邊多列的色度像素點。
5.根據權利要求1-4任一所述的方法,其特征在于,所述模板色度點具體包括:
所述當前色度塊相鄰上邊一行或者上邊多行的色度像素點,以及,所述當前色度塊相鄰左邊一列或者左邊多列的色度像素點。
6.根據權利要求1-5任一項所述的方法,其特征在于,所述獲取模板色度點和模板亮度點之前,所述方法還包括:
解析所述碼流獲得第二指示信息,所述第二指示信息用于指示當前解碼采用的幀內預測模式為線性模型LM模式。
7.根據權利要求1-6任一項所述的方法,其特征在于,
所述方法用于解碼視頻序列中的當前圖像塊,所述當前圖像塊包括所述第一亮度塊和所述當前色度塊,所述視頻序列中的圖像為4:2:0格式或者4:2:2格式。
8.一種色度塊預測方法,其特征在于,所述方法包括:
根據當前色度塊的采樣點位置類型確定濾波器類型;
設置第一指示信息,所述第一指示信息用于指示所述濾波器類型;
將所述第一指示信息編入碼流。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述當前色度塊的采樣點位置類型為以下采樣點位置類型中的至少一種:
采樣點位置類型type0、采樣點位置類型type1、采樣點位置類型type2、采樣點位置類型type3、采樣點位置類型type4、采樣點位置類型type5。
10.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述當前色度塊的采樣點位置類型為以下采樣點位置類型中的至少一種:
采樣點位置類型type0、采樣點位置類型type2。
11.根據權利要求8-10任一項所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
從多個幀內預測模式中選擇線性模型LM模式;
設置第二指示信息,所述第二指示信息用于指示所述線性模型LM模式;
將所述第二指示信息編入所述碼流。
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