[發(fā)明專利]基于源和負(fù)載耦合的基片集成波導(dǎo)準(zhǔn)橢圓帶通濾波器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811035257.5 | 申請日: | 2018-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN109273809A | 公開(公告)日: | 2019-01-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周奇 | 申請(專利權(quán))人: | 西安電子科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01P1/208 | 分類號: | H01P1/208 |
| 代理公司: | 陜西電子工業(yè)專利中心 61205 | 代理人: | 王品華;朱紅星 |
| 地址: | 710071 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微帶傳輸線 基片集成波導(dǎo)腔 基片集成波導(dǎo) 帶通濾波器 負(fù)載耦合 開路枝節(jié) 低損耗 微帶線 準(zhǔn)橢圓 加載 射頻收發(fā)裝置 上表面中心 垂直連接 過渡連接 低輻射 非重復(fù) 高功率 高頻率 矩形槽 漸進(jìn) 刻蝕 對稱 應(yīng)用 | ||
1.一種基于源和負(fù)載耦合的基片集成波導(dǎo)準(zhǔn)橢圓帶通濾波器,包括基片集成波導(dǎo)腔(1)、50Ω微帶傳輸線(2)和梯形漸進(jìn)微帶傳輸線(3),該梯形漸近微帶傳輸線(3)與基片集成波導(dǎo)腔(1)和50Ω微帶傳輸線(2)分別為過渡連接和平滑連接;其特征在于:基片集成波導(dǎo)腔(1)的上表面中心刻蝕有五個對稱非重復(fù)矩形槽(4);基片集成波導(dǎo)腔(1)的一側(cè)設(shè)有開路枝節(jié)加載微帶線(5),該開路枝節(jié)加載微帶線(5)與50Ω微帶傳輸線(2)垂直連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶通濾波器,其特征在于:五個對稱非重復(fù)矩形槽(4)中的四個矩形槽成軸對稱水平分布,位于基片集成波導(dǎo)腔(1)上表面中軸線兩側(cè),另外一個矩形槽位于上表面中軸線上,形成大小不同的三類矩形槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶通濾波器,其特征在于:位于基片集成波導(dǎo)腔(1)上表面中軸線兩側(cè)遠(yuǎn)端的矩形槽大小為6.45mm×0.46mm,中軸線兩側(cè)近端的矩形槽大小為5.65mm×2.01mm,中軸線處矩形槽大小為6.11mm×2.3mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶通濾波器,其特征在于:開路枝節(jié)加載微帶線(5)是由微帶線和兩個開路枝節(jié)構(gòu)成,且兩個開路枝節(jié)加載于微帶線的中段,微帶線兩端與50Ω微帶傳輸線(2)相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶通濾波器,其特征在于:基片集成波導(dǎo)腔(1)為一矩形波導(dǎo),其上下底面為金屬層,中間是介電常數(shù)ε=2.2的低損耗介質(zhì)基片,介質(zhì)兩邊是兩排金屬化通孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的帶通濾波器,其特征在于:開路枝節(jié)加載微帶線(5)緊鄰于基片集成波導(dǎo)腔(1)上側(cè)一排的金屬通孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的帶通濾波器,其特征在于:基片集成波導(dǎo)腔(1)的兩排通孔間的距離W為17mm~18mm,相鄰兩通孔間距離S為小于波導(dǎo)波長的五分之一,金屬通的孔直徑為D且滿足D>0.25*S。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶通濾波器,其特征在于:梯形漸近微帶傳輸線(3)為等腰梯形漸進(jìn)微帶線,其高Lt=3.67mm、下底Wt=4.53mm、上底W50=1.71mm 。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的帶通濾波器,其特征在于:梯形漸近微帶傳輸線(3)的下底與基片集成波導(dǎo)腔(1)過渡連接且兩者水平方向的對稱軸重合,上底與50Ω微帶傳輸線(2)平滑連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶通濾波器,其特征在于:所述50Ω微帶傳輸線長度L50=7.18mm、寬度W50=1.71mm。
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