[發明專利]一種陶瓷基高溫可磨耗封嚴涂層的制備方法在審
| 申請號: | 201811034437.1 | 申請日: | 2018-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN109207902A | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發明(設計)人: | 杜令忠;王喆;蘭昊;張偉剛;黃傳兵 | 申請(專利權)人: | 中國科學院過程工程研究所 |
| 主分類號: | C23C4/134 | 分類號: | C23C4/134;C23C4/073;C23C4/11 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人: | 周蜜;仇蕾安 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陶瓷基 可磨耗封嚴涂層 納米顆粒 前驅體 制備 大氣等離子體噴涂 復合材料領域 后處理 表面噴砂 封嚴涂層 摩擦系數 納米涂層 噴涂過程 噴涂效率 受熱狀態 傳統的 孔隙率 有效地 制孔劑 大孔 噴涂 小孔 | ||
1.一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:所述方法步驟如下:
(1)對基體清潔的表面進行噴砂處理,其粗糙度Ra值為25μm~50μm,得到表面預處理的基體;
(2)將原料溶于水和醇類物質混合溶液中制備YSZ溶液前驅體;
(3)先在表面預處理的基體上采用大氣等離子體噴涂CoNiCrAlY層作為底層,YSZ溶液前驅體采用SPPS噴涂在底層上,形成YSZ陶瓷基納米涂層,該涂層即為所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層;
所述基體為高溫合金基體。
2.根據權利要求1所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:SPPS噴涂的具體參數為:噴嘴內徑為0.26mm~0.6mm,氣液兩相霧化噴嘴距離等離子火焰的高度為0.5cm~3cm,到等離子噴嘴的軸向距離為0.5cm~2cm;氬氣流量為30L/min~50L/min,氫氣流量為1.4L/min~2.0L/min,電流為450A~600A,電壓為60V~80V,噴涂距離為40mm~100mm,液體送料量為10mL/min~30mL/min。
3.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:YSZ溶液前驅體原料釔源為硝酸釔或氧化釔;鋯源為硝酸鋯、氯氧化鋯或硫酸鋯;醇類物質為乙醇或異丙醇。
4.根據權利要求3所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:YSZ溶液前驅體中Y2O3的摩爾含量為3%~10%;水與醇類物質的體積比為1:1~5:1。
5.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:YSZ陶瓷基納米涂層厚度大于等于0.5mm。
6.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:采用乙醇或丙酮溶液對基體表面的油污進行清理獲得表面清潔的基體。
7.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷基高溫封嚴涂層的制備方法,其特征在于:采用乙醇或丙酮溶液對基體表面的油污進行清理獲得表面清潔的基體;
YSZ溶液前驅體原料釔源為硝酸釔或氧化釔;鋯源為硝酸鋯、氯氧化鋯或硫酸鋯;YSZ溶液前驅體中Y2O3的摩爾含量為3%~10%;
醇類物質為乙醇或異丙醇;水與醇類物質的體積比為1:1~5:1;
YSZ陶瓷基納米涂層厚度大于等于0.5mm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





