[發(fā)明專利]光化學(xué)反應(yīng)槽用溫控光源裝置及該光化學(xué)反應(yīng)槽在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811030788.5 | 申請日: | 2018-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN110876915A | 公開(公告)日: | 2020-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊之逸 | 申請(專利權(quán))人: | 捷微科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/12 | 分類號: | B01J19/12;B01J19/00 |
| 代理公司: | 上海中優(yōu)律師事務(wù)所 31284 | 代理人: | 潘詩孟 |
| 地址: | 中國臺灣新北市新*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光化學(xué) 反應(yīng) 溫控 光源 裝置 | ||
1.一種光化學(xué)反應(yīng)槽用溫控光源裝置,供設(shè)置于一光化學(xué)反應(yīng)槽中,并供導(dǎo)接至一溫控裝置,前述光化學(xué)反應(yīng)槽在進(jìn)行任一光化學(xué)反應(yīng)時(shí),各自存在有一適當(dāng)反應(yīng)溫度,其特征是,該溫控光源裝置包括:
一根沿著一長度方向延伸并通透一預(yù)定波長范圍的光且耐反應(yīng)的空心柱狀殼體;
上述空心柱狀殼體中流有由上述溫控裝置供應(yīng)/回收的一溫控流體;
復(fù)數(shù)個(gè)分別導(dǎo)熱連接上述溫控流體的電路基板,每一前述電路基板上分別設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光方向穿透上述空心柱狀殼體朝向上述光化學(xué)反應(yīng)槽的發(fā)光件,前述發(fā)光件具有一個(gè)位于上述預(yù)定波長范圍的主發(fā)光波長,以及一個(gè)操作極限溫度;
前述溫控流體是被控制在一個(gè)不超過上述操作極限溫度且接近上述適當(dāng)反應(yīng)溫度的控制溫度。
2.如權(quán)利要求1所述的溫控光源裝置,其特征是,進(jìn)一步包括設(shè)置于上述空心柱狀殼體中,并供上述溫控流體在其中流動(dòng)的至少一溫控管。
3.一種光化學(xué)反應(yīng)槽,該光化學(xué)反應(yīng)槽在進(jìn)行任一光化學(xué)反應(yīng)時(shí),各自存在有一適當(dāng)反應(yīng)溫度,其特征是,該光化學(xué)反應(yīng)槽包括:
一反應(yīng)槽主體,該反應(yīng)槽主體形成有一反應(yīng)空間、一入口及一出口;
至少一容置于該反應(yīng)空間并導(dǎo)接至一溫控裝置的溫控光源裝置,該溫控光源裝置包括:
一根沿著一長度方向延伸并通透一預(yù)定波長范圍的光且耐反應(yīng)的空心柱狀殼體;
上述空心柱狀殼體中流有由上述溫控裝置供應(yīng)/回收的一溫控流體;
復(fù)數(shù)個(gè)分別導(dǎo)熱連接上述溫控流體的電路基板,每一前述電路基板上分別設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光方向穿透上述空心柱狀殼體朝向上述光化學(xué)反應(yīng)槽的發(fā)光件,前述發(fā)光件具有一個(gè)位于上述預(yù)定波長范圍的主發(fā)光波長,以及一個(gè)操作極限溫度;
前述溫控流體是被控制在一個(gè)不超過上述操作極限溫度且接近上述適當(dāng)反應(yīng)溫度的控制溫度。
4.如權(quán)利要求3所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,上述溫控光源裝置進(jìn)一步包括設(shè)置于上述空心柱狀殼體中,并供上述溫控流體在其中流動(dòng)的至少一溫控管。
5.如權(quán)利要求3所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,進(jìn)一步包括至少一設(shè)置于該反應(yīng)空間的隔板,使該反應(yīng)空間分隔形成一流通道;每一上述隔板形成有至少一供上述空心柱狀殼體貫穿的貫穿孔,且該入口由該流通道導(dǎo)通連接至該出口。
6.如權(quán)利要求3項(xiàng)所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,進(jìn)一步包括對應(yīng)每一上述空心柱狀殼體并供清潔前述對應(yīng)空心柱狀殼體的外表面的一組清潔裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,上述清潔裝置為一組供調(diào)控上述隔板間距離的驅(qū)動(dòng)器。
8.如權(quán)利要求6所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,上述清潔裝置為一組供分別清潔上述空心柱狀殼體的外表面的清潔刷。
9.如權(quán)利要求6所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,進(jìn)一步包括一組回饋感測裝置,該回饋感測裝置包括:
至少一個(gè)供感測上述發(fā)光件所發(fā)并且透出上述空心柱狀殼體的光強(qiáng)度而轉(zhuǎn)換為至少一電訊號輸出的光傳感器;
一個(gè)供接收上述光傳感器輸出電訊號并驅(qū)動(dòng)上述清潔裝置的處理器。
10.如權(quán)利要求3所述的光化學(xué)反應(yīng)槽,其特征是,上述溫控裝置包括一溫控件和一泵浦。
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