[發明專利]使用聲能處理基板的系統、設備和方法

有效

• 申請號: 201811030650.5
• 申請日: 2014-02-03
• 公開（公告）號: CN109201440B
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 約翰·A·考伯勒
• 申請（專利權）人: 北方華創艾可隆公司
• 主分類號: B06B1/06
• 分類號: B06B1/06;B06B3/00;B08B3/12;H01L21/67
• 代理公司: 北京京萬通知識產權代理有限公司 11440
• 代理人: 許天易

1.一種處理扁平制品的系統，包括：

支架，其用于支撐扁平制品；

分配器，其用于將液體施加到所述支架上的所述扁平制品的第一表面；

換能器組件，包括：

傳輸結構，其包括外表面和內表面，第一彎曲表面形成所述外表面的底部，第二表面形成所述內表面的一部分，其位置與所述第一彎曲表面相對；

第二表面包括第一平面部分和第二平面部分，所述第一平面部分和第二平面部分以非零角度彼此相交；

第一換能器，其用于產生聲能，所述第一換能器包括聲學聯接到所述第一平面部分的平坦底表面；和

第二換能器，其用于產生聲能，所述第二換能器包括聲學聯接到所述第二平面部分的平坦底表面；

所述換能器組件設置成使得當所述分配器將液體施加到所述支架上的所述扁平制品的所述第一表面時，在所述傳輸結構的所述第一彎曲表面和所述扁平制品的所述第一表面之間形成液體薄膜。

2.根據權利要求1所述的系統，其中，所述第一換能器被配置為相對于所述扁平制品的表面以第一非法線角度產生聲能，導致反射聲波遠離所述換能器組件行進，并且其中所述第二換能器是被配置為相對于所述扁平制品的表面以第二非法線角度產生聲能，導致反射聲波遠離所述換能器組件行進。

3.根據權利要求2所述的系統，其中所述第一換能器在所述傳輸結構的縱向軸線的第一側上朝向所述扁平制品的所述第一表面產生聲能，并且其中所述第二換能器在所述傳輸結構的縱向軸線的第二側上朝向所述扁平制品的所述第一表面產生聲能。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述傳輸結構是中空管狀結構，其限定內腔，并且其中所述第一平面部分和第二平面部分形成所述內腔的底板，所述第一平面部分和第二平面部分在所述內腔的最底部分處相交。

5.根據權利要求4所述的系統，其中所述內表面的頂部是凹面。

6.根據權利要求4所述的系統，其中，所述第一平面部分和第二平面部分形成V形，其中所述非零角度在90°和140°之間。

7.根據權利要求1所述的系統，其中，所述第一平面部分和第二平面部分中的每一個相對于所述扁平制品的所述第一表面成角度。

8.根據權利要求1所述的系統，其中，所述傳輸結構沿縱向軸線延伸，并且其中所述第一平面部分和第二平面部分中的每一個是位于所述縱向軸線的相對側上的縱向細長部分，并且還包括第一組換能器和第二組換能器，所述第一組換能器以間隔開的方式聲學聯接到所述第一平面部分，所述第二組換能器以間隔開的方式聲學聯接到所述第二平面部分。

9.根據權利要求8所述的系統，其中，所述第一組換能器和所述第二組換能器沿所述傳輸結構的縱向軸線交錯排列。

10.根據權利要求8所述的系統，其中，所述第一組換能器和所述第二組換能器設置為成對地橫向對齊。