[發明專利]等離子體探測裝置和等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201811030301.3
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN109427523B
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 池田太郎;小松智仁;長田勇輝;宮下大幸;齊藤進;古木和弘;佐藤干夫;鐮田英紀
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/244
• 分類號: H01J37/244;H01J37/32
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;徐飛躍

1.一種等離子體探測裝置，其特征在于，包括：

天線部，其隔著將真空空間與大氣空間之間密封的密封部件安裝于開口部中，其中，所述開口部形成在處理容器的壁部或載置臺；

與所述天線部連接的電極；和

由電介質形成的對所述天線部從周圍進行支承的電介質支承部，

所述天線部的前端面與所述壁部或所述載置臺的相對面以規定的距離隔開間隔，所述天線部的從所述開口部露出的前端面，與形成有該開口部的所述壁部或所述載置臺的等離子體生成空間側的面相比凹入到內側，所述相對面是所述壁部或所述載置臺的開口部附近的與所述天線部的前端面相對的所述壁部或所述載置臺的背面。

2.如權利要求1所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

所述天線部的前端部為圓盤狀，所述電介質支承部的深度方向的尺寸與該前端部的直徑的比值為0.44～0.54的范圍內的任一值。

3.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

在所述天線部的前端面形成有凹部和凸部的至少任一者。

4.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

所述天線部的前端面彎曲為凹狀或凸狀。

5.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

所述天線部的前端面和該開口部的周圍的所述壁部或所述載置臺的面中的至少從所述開口部至所述密封部件的區域由Y₂O₃膜覆蓋。

6.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

所述電介質支承部由PTFE形成。

7.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

多個所述天線部隔著所述密封部件安裝于圓周方向上所配置的多個所述開口部中。

8.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

多個所述開口部等間隔地配置在圓周方向上，具有隙縫狀。

9.如權利要求1或2所述的等離子體探測裝置，其特征在于：

多個所述開口部設置在所述處理容器的側壁部、所述處理容器的頂壁和所述載置臺的外周部的至少任一者。

10.一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括：

將從微波等離子體源的輸出部輸出的微波輻射到處理容器內的多個微波輻射機構；和

等離子體探測裝置，

所述等離子體探測裝置包括：

天線部，其隔著將真空空間與大氣空間之間密封的密封部件安裝于開口部中，其中，所述開口部形成在所述處理容器的壁部或載置臺；

與所述天線部連接的電極；和

由電介質形成的對所述天線部從周圍進行支承的電介質支承部，

所述天線部的前端面與所述壁部或所述載置臺的相對面以規定的距離隔開間隔，所述天線部的從所述開口部露出的前端面，與形成有該開口部的所述壁部或所述載置臺的等離子體生成空間側的面相比凹入到內側，所述相對面是所述壁部或所述載置臺的開口部附近的與所述天線部的前端面相對的所述壁部或所述載置臺的背面。

11.如權利要求10所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

具有多個所述等離子體探測裝置，

多個所述天線部隔著所述密封部件安裝于圓周方向上所配置的多個所述開口部中。