[發(fā)明專利]一種圖形化藍寶石襯底及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811026247.5 | 申請日： | 2018-09-04 |
| 公開（公告）號： | CN109166952B | 公開（公告）日： | 2021-06-29 |
| 發(fā)明（設計）人： | 孫遜運 | 申請（專利權）人： | 孫遜運 |
| 主分類號： | H01L33/20 | 分類號： | H01L33/20;H01L33/22;H01L33/16 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 賈顏維 |
| 地址： | 哥倫比亞，*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 圖形 藍寶石 襯底 及其 制備 方法 | ||
1.一種圖形化藍寶石襯底，其特征在于，包括藍寶石平片和在其表面形成的圖形化的含硅有機涂層；
所述含硅有機涂層中硅含量為20-45%；
所述含硅有機涂層的折射率≤1.7;
所述含硅有機涂層主要由含硅樹脂和固化劑加熱固化而成；
所述含硅有機涂層的主要成分為聚硅氧烷樹脂、聚倍半硅氧烷樹脂、改性硅氧烷樹脂等中的一種或幾種的混合物溶液；
所述圖形化藍寶石襯底的制備方法，包括如下步驟：
（a）在藍寶石平片表面涂覆形成含硅有機涂層；
（b）在含硅有機涂層表面涂覆光刻膠形成光刻膠層，光刻形成掩膜圖形；
（c）在光刻膠層的保護下刻蝕含硅有機涂層，將圖形轉移至含硅有機涂層，去除光刻膠，得到所述圖形化藍寶石襯底；
步驟（a）中，將含硅有機材料涂覆于藍寶石平片表面，加熱固化形成含硅有機涂層；
所述步驟（b）中，先在含硅有機涂層表面涂覆耐刻蝕涂層，然后在耐刻蝕涂層表面涂覆光刻膠層，在光刻膠層光刻形成掩膜圖形；
通過烘烤、曝光和顯影，在光刻膠層上形成掩膜圖形；
所述耐刻蝕涂層為有機耐刻蝕材料；
所述光刻膠層為高含硅光刻膠層；
所述步驟（c）中，在光刻膠層的保護下先刻蝕耐刻蝕涂層，然后刻蝕光刻膠層、耐刻蝕涂層和含硅有機涂層，將圖形轉移至含硅有機涂層，得到所述圖形化藍寶石襯底；
所述步驟（c）中通過等離子體刻蝕含硅有機涂層，將圖形轉移至含硅有機涂層。
2.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述含硅有機涂層的折射率為1.3-1.7。
3.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述耐刻蝕涂層的厚度為1-3μm。
4.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述耐刻蝕涂層的厚度為1.5-2.5μm。
5.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述光刻膠層的厚度為0.1-1um。
6.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述光刻膠層的厚度為0.2-0.5um。
7.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述含硅有機涂層的厚度為2.3±1μm。
8.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述含硅有機涂層的厚度為2.3±0.5μm。
9.根據權利要求1所述的圖形化藍寶石襯底，其特征在于，所述步驟（c）中通過等離子體刻蝕含硅有機涂層，將圖形轉移至含硅有機涂層，至露出藍寶石平片即可。
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