[發(fā)明專利]一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811025612.0
• 申請(qǐng)日: 2018-09-04
• 公開（公告）號(hào): CN108914080B
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許小紅;秦秀芳;睢彩云
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山西師范大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/18;C23C14/58
• 代理公司: 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 周淑歌

1.一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，包括如下步驟：

磁控濺射鍍膜步驟：用高純度工作氣體同時(shí)轟擊高純度錳靶和鉍靶，在基片上共沉積錳鉍；

退火步驟：將磁控濺射鍍膜后的基片進(jìn)行退火，得到錳鉍合金薄膜；其中，錳的濺射功率為28-40W。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜步驟中，本底真空為4.0×10^-5-9.9×10^-5Pa。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜步驟中，濺射壓強(qiáng)為1.0-2.9Pa。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜步驟中，鉍的濺射功率為8-12W。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜步驟中，濺射時(shí)間為1200-3600s。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜步驟中，錳靶基距為4-6cm，鉍靶基距為4-6cm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述退火步驟中，退火本底真空為1×10^-4-2×10^-4Pa。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述退火步驟中，退火溫度為360-390℃。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述退火步驟中，退火時(shí)間為2-4h。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種制備具有室溫交換偏置效應(yīng)錳鉍合金薄膜的方法，其特征在于，所述退火步驟中，升溫速率為2-4℃/min，降溫速率為1-3℃/min。