[發明專利]熒光X射線分析裝置和熒光X射線分析方法

有效

• 申請號: 201811024591.0
• 申請日: 2018-09-04
• 公開（公告）號: CN109459458B
• 公開（公告）日: 2023-07-04
• 發明（設計）人: 深井隆行;的場吉毅;大柿真毅
• 申請（專利權）人: 日本株式會社日立高新技術科學
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;孫明浩

1.一種熒光X射線分析裝置，其特征在于，具有：

試樣容器，其能夠收納試樣；

X射線源，其向所述試樣照射原級X射線；

檢測器，其檢測從被照射了所述原級X射線的所述試樣產生的熒光X射線；以及

照射范圍變更機構，其能夠變更向所述試樣容器內的所述試樣照射所述原級X射線的范圍，

所述照射范圍變更機構能夠變更為局部照射和寬范圍照射，在該局部照射中，至少向靠近所述試樣容器的與所述檢測器對置的壁面的所述試樣照射所述原級X射線，在該寬范圍照射中，以比所述局部照射大的區域向所述試樣容器內的所述試樣照射所述原級X射線，

所述試樣容器具有所述原級X射線能夠透過的第1壁面和所述熒光X射線能夠透過的第2壁面，

所述X射線源與所述第1壁面相鄰配置，并且所述檢測器與所述第2壁面相鄰配置，

所述照射范圍變更機構在所述局部照射時向所述第2壁面的內表面附近照射所述原級X射線，

所述照射范圍變更機構根據所述熒光X射線中的要關注的元素的分析深度來調整所述寬范圍照射和所述局部照射中的所述原級X射線的照射區域，

所述試樣以輕元素為主要成分，

所述照射范圍變更機構在檢測所述試樣中的元素中的Cd、Sn、Sb、Ba中的至少一個時切換為所述寬范圍照射，在檢測所述試樣中的元素中的As、Pb、Hg、Br中的至少一個時切換為所述局部照射。

2.根據權利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，

所述照射范圍變更機構具有：

準直器，其配置于所述X射線源與所述試樣容器之間，具有能夠供所述原級X射線透過的多個透過窗；以及

準直器移動機構，其能夠以使得所述原級X射線能夠透過多個所述透過窗中的任意一個透過窗的方式使所述準直器相對于所述X射線源相對地移動，

所述準直器具有局部用透過窗和寬范圍用透過窗作為所述透過窗，該局部用透過窗能夠在所述局部照射時使所述原級X射線照射靠近所述檢測器的區域，該寬范圍用透過窗能夠在所述寬范圍照射時使所述原級X射線以比所述局部照射大的區域照射所述試樣容器內的所述試樣。

3.根據權利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，

所述照射范圍變更機構具有：

準直器，其配置于所述X射線源與所述試樣容器之間，具有能夠供所述原級X射線透過的透過窗；以及

準直器移動機構，其能夠以使得所述原級X射線能夠透過所述準直器的方式使所述準直器相對于所述X射線源相對地移動，

所述準直器移動機構在所述寬范圍照射時能夠使所述透過窗移動到如下位置，該位置能夠使得所述原級X射線以比所述局部照射大的區域照射所述試樣容器內的所述試樣，

并且，所述準直器移動機構在所述局部照射時能夠使所述透過窗移動到如下位置，該位置能夠使得所述原級X射線以比所述寬范圍照射窄的范圍照射所述試樣容器內的靠近所述檢測器的所述試樣。

4.根據權利要求1至3中的任意一項所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，

所述試樣是流動性的固體或液體。

5.根據權利要求4所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，

所述試樣是米粒或者米粉。

6.一種熒光X射線分析方法，其是使用權利要求1所述的熒光X射線分析裝置的熒光X射線分析方法，從X射線源向試樣容器內的試樣照射原級X射線，并通過檢測器來檢測從所述試樣產生的熒光X射線，其特征在于，該熒光X射線分析方法包含如下工序：

局部照射工序，至少向靠近所述試樣容器的與所述檢測器對置的壁面的所述試樣照射所述原級X射線；以及

寬范圍照射工序，以比所述局部照射工序大的區域向所述試樣容器內的所述試樣照射所述原級X射線，

所述試樣容器具有所述原級X射線能夠透過的第1壁面和所述熒光X射線能夠透過的第2壁面，

將所述X射線源與所述第1壁面相鄰配置，并且將所述檢測器與所述第2壁面相鄰配置，

在所述局部照射工序中，向所述第2壁面的內表面附近照射所述原級X射線，

根據所述熒光X射線中的要關注的元素的分析深度來調整所述寬范圍照射工序和所述局部照射工序中的所述原級X射線的照射區域，

所述試樣以輕元素為主要成分，

在檢測所述試樣中的元素中的Cd、Sn、Sb、Ba中的至少一個時執行所述寬范圍照射工序，在檢測所述試樣中的元素中的As、Pb、Hg、Br中的至少一個時執行所述局部照射工序。