[發明專利]光阻處理系統

有效

• 申請號: 201811023793.3
• 申請日: 2018-09-04
• 公開（公告）號: CN110858542B
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 黃立民;翁光祥
• 申請（專利權）人: 臺州觀宇科技有限公司
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027
• 代理公司: 北京威禾知識產權代理有限公司 11838
• 代理人: 沈超

1.一種光阻處理系統，用以處理一基板所承載的磁性光阻，包含：

一固持裝置，具有至少一結合區，用以配置該基板；以及

一磁性裝置，該磁性裝置與該結合區設置于該基板的相對側，其中該磁性裝置所產生的磁場對該基板上的該磁性光阻具有一磁吸效應以對該磁性光阻產生遠離該基板的磁力以將該磁性光阻剝離該基板。

2.如權利要求1所述的光阻處理系統，其中該固持裝置具有二個該結合區，該磁性裝置具有相應的二個磁吸方向，二個該磁吸方向分別沿相異的一第一方向與一第二方向對應于相應的二個該結合區。

3.如權利要求1所述的光阻處理系統，其中該磁性裝置包含多個磁性單元，該多個磁性單元間隔排列。

4.如權利要求3所述的光阻處理系統，其中該多個磁性單元包含相互堆迭的一第一磁性單元與一第二磁性單元，且該第一磁性單元與該第二磁性單元相互交錯。

5.如權利要求1所述的光阻處理系統，其中該磁性裝置包含陣列排列的多個孔洞。

6.一種光阻處理系統，用以處理一基板所承載的磁性光阻，包含：

一固持裝置，具有至少一結合區，用以配置該基板；以及

一磁性裝置，該磁性裝置與該結合區設置于該基板的相對側，其中該磁性裝置所產生的磁場對該磁性光阻具有一磁吸效應;

其中該固持裝置更具有一運送單元，通過該結合區，用以承載該基板以及帶動該基板相對該磁性裝置位移以對該磁性光阻產生遠離該基板的磁力。

7.一種光阻處理系統，用以處理一基板所承載的磁性光阻，包含：

一固持裝置，具有至少一結合區，用以配置該基板；以及

一磁性裝置，該磁性裝置與該結合區設置于該基板的相對側，其中該磁性裝置所產生的磁場對該磁性光阻具有一磁吸效應以對該磁性光阻產生遠離該基板的磁力;

其中該固持裝置為一槽體，該槽體包含一注入口以及一流出口，一去光阻劑經由該注入口注入該槽體內并經由該流出口流出該槽體。

8.如權利要求7所述的光阻處理系統另包含：

一過濾裝置，連接于該流出口，用以過濾流出該槽體的該去光阻劑中的該磁性光阻：以及

一循環裝置，連接于該注入口以及該流出口之間，用以將過濾后的去光阻劑注入該槽體。

9.如權利要求8所述的光阻處理系統，其中該過濾裝置包含一磁性元件，該磁性元件所產生的磁場對該磁性光阻具有該磁吸效應。

10.一種光阻處理系統，用以處理一基板所承載的磁性光阻，包含：

一固持裝置，具有至少一結合區，用以配置該基板；

一磁性裝置，該磁性裝置與該結合區設置于該基板的相對側，其中該磁性裝置所產生的磁場對該磁性光阻具有一磁吸效應以對該磁性光阻產生遠離該基板的磁力;以及

一震蕩裝置，連接于該固持裝置，用以驅動該磁性光阻自該基板上剝離。