[發明專利]一種納米石墨溶膠制備裝置及制備方法

在審

• 申請號: 201811020839.6
• 申請日: 2018-09-03
• 公開（公告）號: CN109092218A
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發明（設計）人: 曹明輝
• 申請（專利權）人: 曹明輝
• 主分類號: B01J13/00
• 分類號: B01J13/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

本發明涉及納米石墨溶膠制備領域，公開了一種納米石墨溶膠制備裝置，其包括電解槽，沖洗管和限位蓋板，電解槽包括槽體，沿槽體的寬度方向間隔設有多個石墨支架，每相鄰兩個石墨支架之間設有多組一一對應的支撐開口槽，每組支撐開口槽之間用于放置一石墨板，每片石墨板的其中一對對角分別支撐在一組支撐開口槽中，限位蓋板呈條狀，限位蓋板的底面沿其長度方向間隔設有多個卡槽，限位蓋板用于設于石墨板的上方，通過卡槽將多片石墨板之間一一隔開，沖洗管沿槽體的內側壁設置，并沿槽體的底面延伸。本發明還公開了一種制備方法。本發明能夠解決納米石墨溶膠在制備過程中易團聚，制備納米石墨溶膠用時短，雜質離子少，粒徑小，濃度高，穩定性好。

技術領域

本發明涉及納米石墨溶膠制備技術領域，特別是涉及一種納米石墨溶膠制備裝置及制備方法。

背景技術

納米材料的制備和應用技術，成為二十一世紀材料研究的一項新內容。大量研究表明，碳處于納米尺度范圍時，具有許多常規尺寸碳材料所不具有的特殊性能。其廣泛應用于電發熱材料、電池制造業、磁性記錄材料、農業、航空、航天等領域，用途十分廣泛，是納米材料研究中的亮點。但是，由于碳是處于半金屬狀態的元素，在納米狀態時具有強烈的選擇吸附性，且帶有負電性，極易發生團聚，使納米碳的制造十分困難。

現有生產納米石墨溶膠的設備，納米石墨溶膠會在負極板上堆積團聚，產生大量類似淤泥狀的沉淀，直接影響到了溶膠濃度的提高，這種電極上的團聚堆積碳顆粒會形成很厚的勢壘層，不但阻礙納米石墨碳生成，而且團聚碳顆粒都在微米級，脫落后會在電解槽底部形成沉積，造成電極短路，并且清理十分困難，需將整套生產設備完全拆解露出箱底才能清理干凈，嚴重影響設備的使用壽命和出產溶膠的質量。

發明內容

(一)要解決的技術問題

本發明旨在至少解決現有技術或相關技術中存在的技術問題之一。

本發明的目的是提供一種納米石墨溶膠制備裝置及制備方法，以解決納米石墨溶膠在制備過程中易團聚，特別是電極上的團聚，分散難的問題，得到的溶膠濃度高，穩定性、粒徑均勻性好。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本發明提供一種納米石墨溶膠制備裝置，其包括電解槽，沖洗管和限位蓋板，所述電解槽包括槽體，沿所述槽體的寬度方向間隔設有多個石墨支架，每相鄰兩個所述石墨支架之間設有多組一一對應的支撐開口槽，每組所述支撐開口槽之間用于放置一石墨板，每片所述石墨板的其中一對對角分別支撐在一組所述支撐開口槽中，所述限位蓋板呈條狀，所述限位蓋板的底面沿其長度方向間隔設有多個卡槽，所述限位蓋板用于設于所述石墨板的上方，通過所述卡槽將多片所述石墨板之間一一隔開，所述沖洗管沿所述槽體的內側壁設置，并彎折沿所述槽體的底面延伸。

其中，所述支撐開口槽沿所述石墨支架的長度方向成排間隔設置，所述支撐開口槽的寬度與所述石墨板的厚度相匹配，相鄰兩個所述支撐開口槽之間的間距限定出相鄰兩片所述石墨板之間的間距。

其中，所述支撐開口槽的槽底面呈從內向外向下傾斜設置，且所述槽底面的傾斜角度和與所述槽底面接觸的所述石墨板的斜邊傾斜角度一致。

其中，所述石墨板呈方形，所述限位蓋板用于蓋設在所述石墨板的頂角上，所述卡槽的橫截面呈與所述石墨板的頂角相匹配的三角形；所述石墨板的底角與所述槽體的底部之間留有間距。

其中，所述石墨支架的兩端通過支撐桿支撐在所述槽體中，所述支撐桿的頂端設有夾持所述石墨支架的定位槽，所述支撐桿貼設于所述槽體的寬度方向的相對兩側。

其中，所述沖洗管包括多組，多組所述沖洗管沿所述槽體的長度方向間隔設置，每組所述沖洗管包括豎直段和水平段，所述豎直段和水平段通過彎管接頭連接，所述水平段沿所述槽體的底部寬度方向設置，所述水平段的管壁分布有若干出水孔，且所述出水孔水平向下傾斜；所述沖洗管用于向所述槽體中放入電解液或向所述槽體提供需要清洗的沖洗水。