[發(fā)明專(zhuān)利]投影系統(tǒng)及其光源模組有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811014129.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110876021B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐應(yīng)榮;侯海雄;李屹 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H04N5/235 | 分類(lèi)號(hào): | H04N5/235;H04N9/31 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 唐芳芳 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市南山區(qū)粵*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 投影 系統(tǒng) 及其 光源 模組 | ||
1.一種投影系統(tǒng),其特征在于,包括:
圖像信號(hào)處理器,用于將輸入所述投影系統(tǒng)的圖像數(shù)字信號(hào)轉(zhuǎn)化為光源調(diào)制信號(hào)與圖像調(diào)制信號(hào),其中,所述光源調(diào)制信號(hào)是根據(jù)圖像的灰階值生成的控制光源光亮度的控制信號(hào);
光源模組,所述光源模組包括激光器陣列、勻光器陣列、聚光模塊及波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置;
所述激光器陣列包括呈陣列排布的多個(gè)激光器,所述激光器均勻劃分為呈陣列排布的多個(gè)激光器組,每一所述激光器組包括至少一個(gè)所述激光器,所述激光器用于出射激光,所述光源調(diào)制信號(hào)用于控制每一所述激光器組的激光亮度;所述勻光器陣列包括呈陣列排布的多個(gè)勻光器,每個(gè)所述勻光器與一所述激光器組對(duì)應(yīng),將所述激光器組出射的激光進(jìn)行勻光;所述聚光模塊將均勻化后的激光匯聚并入射至所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,所述均勻化后的激光在所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成由多個(gè)小光斑組成的陣列光斑;所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置能夠?qū)⑺黾す廪D(zhuǎn)換為熒光;
空間光調(diào)制器,所述空間光調(diào)制器根據(jù)所述圖像調(diào)制信號(hào)調(diào)制自所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置出射的所述激光及所述熒光以產(chǎn)生圖像光。
2.如權(quán)利要求1所述的投影系統(tǒng),其特征在于,所述光源模組還包括準(zhǔn)直透鏡陣列,所述準(zhǔn)直透鏡陣列包括呈陣列排布的多個(gè)準(zhǔn)直透鏡,每個(gè)所述準(zhǔn)直透鏡與一個(gè)所述激光器對(duì)應(yīng),將所述激光器出射的所述激光進(jìn)行準(zhǔn)直化處理;所述準(zhǔn)直透鏡陣列位于所述激光器陣列與所述勻光器陣列之間的光路中,或者所述勻光器陣列位于所述激光器陣列與所述準(zhǔn)直透鏡陣列之間的光路中。
3.如權(quán)利要求1所述的投影系統(tǒng),其特征在于,所述聚光模塊包括依光路設(shè)置的第一聚光透鏡、光引導(dǎo)裝置及收集透鏡組,所述激光通過(guò)所述第一聚光透鏡聚焦于所述光引導(dǎo)裝置,并由所述光引導(dǎo)裝置引導(dǎo)進(jìn)入所述收集透鏡組,所述激光經(jīng)過(guò)所述收集透鏡組收集入射至所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置。
4.如權(quán)利要求3所述的投影系統(tǒng),其特征在于,所述光源模組還包括第二聚光透鏡,自所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置出射的所述激光及所述熒光通過(guò)所述收集透鏡組及所述光引導(dǎo)裝置出射之后被所述第二聚光透鏡聚焦進(jìn)入所述空間光調(diào)制器中。
5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的投影系統(tǒng),其特征在于,所述勻光器為勻光棒或者復(fù)眼透鏡。
6.一種光源模組,應(yīng)用于投影系統(tǒng)中,其特征在于,包括激光器陣列、勻光器陣列、聚光模塊及波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置;所述激光器陣列包括呈陣列排布的多個(gè)激光器,所述激光器均勻劃分為呈陣列排布的多個(gè)激光器組,每一所述激光器組包括至少一個(gè)所述激光器,所述激光器用于出射激光;所述勻光器陣列包括呈陣列排布的多個(gè)勻光器,每個(gè)所述勻光器與一所述激光器組對(duì)應(yīng),將所述激光器組出射的激光進(jìn)行勻光;所述聚光模塊將均勻化后的激光匯聚并入射至所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,所述均勻化后的激光在所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成由多個(gè)小光斑組成的陣列光斑;所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置能夠?qū)⑺黾す廪D(zhuǎn)換為熒光;
其中,每一所述激光器組的亮度均可被一光源調(diào)制信號(hào)控制,所述光源調(diào)制信號(hào)用于根據(jù)圖像的灰階值生成的控制光源光亮度的控制信號(hào);所述光源模組發(fā)出的所述激光與所述熒光用于被一空間光調(diào)制器根據(jù)圖像調(diào)制信號(hào)調(diào)制以產(chǎn)生圖像光;所述圖像調(diào)制信號(hào)和所述光源調(diào)制信號(hào)由輸入所述投影系統(tǒng)的圖像數(shù)字信號(hào)轉(zhuǎn)化生成。
7.如權(quán)利要求6所述的光源模組,其特征在于,所述光源模組還包括準(zhǔn)直透鏡陣列,所述準(zhǔn)直透鏡陣列包括呈陣列排布的多個(gè)準(zhǔn)直透鏡,每個(gè)所述準(zhǔn)直透鏡與一個(gè)所述激光器對(duì)應(yīng),將所述激光器出射的所述激光進(jìn)行準(zhǔn)直化處理;所述準(zhǔn)直透鏡陣列位于所述激光器陣列與所述勻光器陣列之間的光路中,或者所述勻光器陣列位于所述激光器陣列與所述準(zhǔn)直透鏡陣列之間的光路中。
8.如權(quán)利要求6所述的光源模組,其特征在于,所述聚光模塊包括依光路設(shè)置的第一聚光透鏡、光引導(dǎo)裝置及收集透鏡組,所述激光通過(guò)所述第一聚光透鏡聚焦于所述光引導(dǎo)裝置,并由所述光引導(dǎo)裝置引導(dǎo)進(jìn)入所述收集透鏡組,所述激光經(jīng)過(guò)所述收集透鏡組收集入射至所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置。
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