[發明專利]靜電吸盤、成膜裝置、基板的保持及分離方法、成膜方法有效
| 申請號： | 201811010711.1 | 申請日： | 2018-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN109957775B | 公開（公告）日： | 2022-10-21 |
| 發明（設計）人： | 柏倉一史;石井博;細谷映之 | 申請（專利權）人： | 佳能特機株式會社;阿奧依株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/50 | 分類號： | C23C14/50;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 劉日華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 靜電 吸盤 裝置 保持 分離 方法 | ||
1.一種靜電吸盤，用于保持基板，其中，包括：
包括電極部的基板保持部；
向所述電極部施加電壓的電壓施加部；
對通過所述電壓施加部向所述電極部施加的電壓進行控制的電壓控制部，
所述靜電吸盤包括多個基板保持部，
所述電壓施加部，向所述多個基板保持部施加用于保持基板的第一電壓以及用于分離基板的第二電壓，
所述電壓控制部對每個所述基板保持部獨立地控制所述第二電壓的施加，
所述電壓控制部，根據所述多個基板保持部分別保持基板的順序，控制向所述多個基板保持部的每一個施加的所述第二電壓的大小。
2.如權利要求1所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部對每個所述基板保持部獨立地控制所述第二電壓的施加開始時刻。
3.如權利要求2所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部以使每一個所述基板保持部的所述第二電壓的施加開始時刻不同的方式進行控制。
4.如權利要求2所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部，根據所述多個基板保持部分別保持基板的順序，對向所述多個基板保持部的每一個施加所述第二電壓的施加開始時刻進行控制。
5.如權利要求2所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部以向所述多個基板保持部按順序施加所述第二電壓的方式進行控制。
6.如權利要求1所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部對每一個所述基板保持部獨立地控制所述第二電壓的保持時間。
7.如權利要求6所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部以使每一個所述基板保持部的所述第二電壓的保持時間不同的方式進行控制。
8.如權利要求6所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部根據所述多個基板保持部分別保持基板的順序，控制對所述多個基板保持部的每一個保持所述第二電壓的保持時間。
9.如權利要求1所述的靜電吸盤，其中，
所述電壓控制部以使每一個所述基板保持部的所述第二電壓的大小不同的方式進行控制。
10.如權利要求1所述的靜電吸盤，其中，
所述第二電壓是接地電壓或者與第一電壓極性相反的電壓。
11.一種成膜裝置，用于經由掩模在基板上對蒸鍍材料進行成膜，其中，包括：
用于保持基板的權利要求1至權利要求10中的任一項所述的靜電吸盤；
設置于所述靜電吸盤的下方，用于載置掩模的掩模臺；
以與所述靜電吸盤相向的方式設置于所述掩模臺的下方，用于設置收容有蒸鍍材料的蒸鍍源的蒸鍍源設置臺。
12.一種基板的保持及分離方法，用于在具有多個基板保持部的靜電吸盤保持以及分離基板，其中，包括：
向所述多個基板保持部施加第一電壓，使所述多個基板保持部保持基板的階段；
向所述多個基板保持部施加第二電壓，使基板從所述多個基板保持部分離的階段，
在所述分離的階段中，對每一個所述基板保持部獨立地進行控制而施加所述第二電壓，
根據在所述保持的階段所述多個基板保持部分別保持基板的順序，在所述分離的階段，控制向所述多個基板保持部的每一個施加的所述第二電壓的大小。
13.如權利要求12所述的基板的保持及分離方法，其中，
在所述分離的階段，以對每一個所述基板保持部獨立地控制所述第二電壓的施加開始時刻的方式施加所述第二電壓。
14.如權利要求13所述的基板的保持及分離方法，其中，
在所述分離的階段，以使每一個所述基板保持部的所述第二電壓的施加開始時刻不同的方式進行控制。
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