[發(fā)明專利]數(shù)據(jù)處理方法、數(shù)據(jù)處理裝置以及電子設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811007980.2 | 申請日: | 2018-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109359516A | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫黎;白濤;馬熠東;步衍浩 | 申請(專利權(quán))人: | 算豐科技(北京)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06K9/00 | 分類號(hào): | G06K9/00;G06K9/62 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王洵 |
| 地址: | 100192 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 矩陣數(shù)據(jù) 數(shù)據(jù)處理 特征數(shù)據(jù) 數(shù)據(jù)處理裝置 電子設(shè)備 維度 對比結(jié)果 目標(biāo)特征 人臉檢索 計(jì)算量 申請 量化 輸出 | ||
1.一種數(shù)據(jù)處理方法,所述數(shù)據(jù)處理方法應(yīng)用于圖形處理器,其特征在于,所述數(shù)據(jù)處理方法包括:
獲取第一矩陣數(shù)據(jù)集;
對所述第一矩陣數(shù)據(jù)集進(jìn)行第一維度處理,獲得第二矩陣數(shù)據(jù)集;
對所述第二矩陣數(shù)據(jù)集進(jìn)行第二維度處理,獲得第三矩陣數(shù)據(jù)集;
根據(jù)所述第一矩陣數(shù)據(jù)集與所述第三矩陣數(shù)據(jù)集獲得第四矩陣數(shù)據(jù)集;
將所述第四矩陣數(shù)據(jù)集的特征數(shù)據(jù)量化到特定區(qū)域,獲得特征數(shù)據(jù)集;
將所述特征數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)與對應(yīng)的目標(biāo)特征數(shù)據(jù)進(jìn)行對比;
輸出對比結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,所述第一矩陣數(shù)據(jù)集具有第一矩陣維度值,所述第三矩陣數(shù)據(jù)集具有第二矩陣維度值,所述第二矩陣維度值小于所述第一矩陣維度值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,所述第二矩陣維度值的取值滿足第一預(yù)設(shè)條件:
所述第二矩陣數(shù)據(jù)集的前M個(gè)特征數(shù)據(jù)的累加值在第一特定值域且M被第一特定值整除,則M為所述第二矩陣維度值的取值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,如果滿足所述第一預(yù)設(shè)條件的所述第二矩陣維度值的取值多于一個(gè),則所述第二矩陣維度值的取值為多個(gè)滿足所述第一預(yù)設(shè)條件的第二矩陣維度值的取值的中間值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,將所述第四矩陣數(shù)據(jù)集的特征數(shù)據(jù)量化到特定值域,獲得特征數(shù)據(jù)集,包括:
將所述第四矩陣數(shù)據(jù)集的特征數(shù)據(jù)量化到第二特定值域,得到第一特征數(shù)據(jù)集;
將所述第一特征數(shù)據(jù)集進(jìn)一步量化到第三特定值域,得到第二特征數(shù)據(jù)集。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,所述第二特定值域的取值滿足第二預(yù)設(shè)條件:
特定比例的所述第四矩陣數(shù)據(jù)集的特征數(shù)據(jù)在所述第二特定值域內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,將所述特征數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)與對應(yīng)的目標(biāo)特征數(shù)據(jù)進(jìn)行對比,包括:
將所述第二特征數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)與對應(yīng)的目標(biāo)特征數(shù)據(jù)進(jìn)行對比。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,將所述第二特征數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)與對應(yīng)的目標(biāo)特征數(shù)據(jù)進(jìn)行對比,包括:
將所述第二特征數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)與對應(yīng)的目標(biāo)特征數(shù)據(jù)依次進(jìn)行向量乘法,并提取乘積結(jié)果最大的前K個(gè)值作為輸出結(jié)果;其中,
使用整數(shù)運(yùn)算指令依次進(jìn)行所述向量乘法。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任意一項(xiàng)所述的數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,所述第三矩陣數(shù)據(jù)集與所述第四矩陣數(shù)據(jù)集具有相同的矩陣維度值。
10.一種數(shù)據(jù)處理裝置,所述數(shù)據(jù)處理裝置包含至少一個(gè)圖形處理器,其特征在于,所述數(shù)據(jù)處理裝置包含:
數(shù)據(jù)獲取模塊,用于獲取第一矩陣數(shù)據(jù)集;
第一數(shù)據(jù)處理模塊,用于對所述第一矩陣數(shù)據(jù)集進(jìn)行第一維度處理,獲得第二矩陣數(shù)據(jù)集;
第二數(shù)據(jù)處理模塊,用于對所述第二矩陣數(shù)據(jù)集進(jìn)行第二維度處理,獲得第三矩陣數(shù)據(jù)集;
第三數(shù)據(jù)處理模塊,用于根據(jù)所述第一矩陣數(shù)據(jù)集與所述第三矩陣數(shù)據(jù)集獲得第四矩陣數(shù)據(jù)集;
數(shù)據(jù)量化模塊,用于將所述第四矩陣數(shù)據(jù)集的特征數(shù)據(jù)量化到特定區(qū)域,獲得特征數(shù)據(jù)集;
數(shù)據(jù)對比模塊,用于將所述特征數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)與對應(yīng)的目標(biāo)特征數(shù)據(jù)進(jìn)行對比;
數(shù)據(jù)輸出模塊,用于輸出對比結(jié)果。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的數(shù)據(jù)處理裝置,其特征在于,所述第一矩陣數(shù)據(jù)集具有第一矩陣維度值,所述第三矩陣數(shù)據(jù)集具有第二矩陣維度值,所述第二矩陣維度值小于所述第一矩陣維度值。
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G06K9-18 .應(yīng)用具有附加代碼標(biāo)記或含有代碼標(biāo)記的打印字符的,例如,由不同形狀的各個(gè)筆畫組成的,而且每個(gè)筆畫表示不同的代碼值的字符
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