[發明專利]一種用于薄金屬的高溫薄膜沉積的加熱裝置

有效

• 申請號: 201810995176.3
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN109097756B
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 陶伯萬;徐一鱺;趙睿鵬;茍繼濤;陳然;賀冠園
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46
• 代理公司: 電子科技大學專利中心 51203
• 代理人: 閆樹平

1.一種用于薄金屬的高溫薄膜沉積的加熱裝置，包括安裝在真空腔體中的正負電極組單元、薄膜生長區、外接電流源和兩個卷繞盤，其特征在于：

待鍍膜的金屬基帶從一個卷繞盤上牽引至一個電極組單元，經過薄膜生長區鍍膜后，牽引至另一個電極組單元上，最終盤繞在另一個卷繞盤上，外接電源提供電極組單元的加熱電流；

所述電極組單元由兩個轉動輪、導電金屬棒、導電金屬棒固定裝置和支撐架組成，對金屬基帶進行加熱；其加熱方式的機理是：加熱電流通過導電金屬棒從基帶與其接觸處導入到金屬基帶內部，并在位于薄膜沉積區中的金屬基帶上流動，因基帶自身電阻產生的焦耳熱達到薄膜生長所需的溫度，同時通過另一相同結構的電極組流出，形成一個完整的電流通路；

所述轉動輪表面光滑，與金屬基帶之間沒有相對摩擦，軸心絕緣，用于支撐金屬基帶，一個與卷繞盤構成金屬基帶的通道，另一個分別與導電金屬棒和薄膜生長區構成金屬基帶的通道；其在支撐架上位置可調，以實現金屬基帶與導電金屬棒間的接觸力調整；

所述導電金屬棒與外接電源連接，支撐穩固金屬基帶，并與轉動輪之間構成金屬基帶的通道；N個導電金屬棒平行等距的固定在導電金屬棒固定裝置上，且導電金屬棒的同側端面在導電金屬棒固定裝置上處于同一弧線上，導電金屬棒與導電金屬棒固定裝置之間絕緣，N≥5；每根導電金屬棒與外部連接一個電阻單元構成一個電極單元，各電極單元通過電流分配電路形成電連接，電流分配電路為串聯電阻；工作時，金屬基帶與N個導電金屬棒構成的弧面直接貼合接觸，導電金屬棒不隨金屬基帶的移動而滾動；

所述支撐架用于安裝導電金屬棒固定裝置和兩個轉動輪，且支撐架與導電金屬棒和轉動輪相互之間均絕緣。

2.如權利要求1所述用于薄金屬的高溫薄膜沉積的加熱裝置，其特征在于：所述電流分配電路實現電流的均勻分配經導電金屬棒輸入至金屬基帶。