[發明專利]襯底處理設備

有效

• 申請號: 201810994464.7
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN109427533B
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 嚴基喆;張顯秀;李政鎬;韓镕圭
• 申請（專利權）人: ASM知識產權私人控股有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種襯底處理設備，其特征在于，包括：

氣體入口；

反應器，包括襯底支撐件，其中所述氣體入口垂直于所述襯底支撐件并位於所述襯底支撐件的中央；

氣體供應單元，連接到所述氣體入口；以及

等離子體供應單元，電連接到所述氣體供應單元，

其中所述等離子體供應單元包括：

等離子體產生器；

射頻棒，連接到所述等離子體產生器；

橋接件，呈弓形，連接到所述射頻棒且延伸成環繞所述氣體入口，所述橋接件包括環繞所述氣體入口逆時針延伸的逆時針延伸部分及環繞所述氣體入口順時針延伸的順時針延伸部分；

多個饋電體，被定位成環繞所述氣體入口而對稱；以及

接地屏蔽物，位于所述橋接件與所述多個饋電體之間，

其中所述多個饋電體包括：

第一饋電體，水平且縱向地延伸，其中所述第一饋電體的至少一部分與所述橋接件的第一端部分垂直地交疊；

第二饋電體，在與所述第一饋電體延伸的方向相反的方向上延伸；

第三饋電體，水平且縱向地延伸，其中所述第三饋電體的至少一部分與所述橋接件的第二端部分垂直地交疊；以及

第四饋電體，在與所述第三饋電體延伸的方向相反的方向上延伸，

其中所述襯底處理設備還包括：

第一分流點，將所述逆時針延伸部分連接至所述第一饋電體及所述第二饋電體；以及

第二分流點，將所述順時針延伸部分連接至所述第三饋電體及所述第四饋電體，

其中流過所述逆時針延伸部分的第一電流的方向相反于流過所述第一饋電體的第二電流的方向，

其中流過所述順時針延伸部分的第三電流的方向相反于流過所述第三饋電體的第四電流的方向，

其中第一感應信號分量由所述第一電流及所述第三電流產生，且第二感應信號分量由所述第二電流及所述第四電流產生，

其中所述第一感應信號分量以及所述第二感應信號分量經由所述接地屏蔽物放電，

其中所述氣體入口位于連接到所述反應器的上部分的所述多個饋電體之間，

其中所述橋接件通過所述逆時針延伸部分及所述順時針延伸部分繞過所述氣體入口，

其中所述第一饋電體，所述第二饋電體，所述第三饋電體及所述第四饋電體通過所述橋接件連接到所述射頻棒。

2.根據權利要求1所述的襯底處理設備，進一步包括被配置成將所述多個饋電體電連接到所述氣體供應單元的多個饋電射頻棒，

其中所述多個饋電體及所述多個饋電射頻棒被定位成環繞所述氣體入口而對稱。