[發明專利]偏振非制冷紅外焦平面探測器有效
| 申請號: | 201810994366.3 | 申請日: | 2018-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN109309140B | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發明(設計)人: | 方輝;趙永強;潘泉 | 申請(專利權)人: | 北方廣微科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/09 | 分類號: | H01L31/09 |
| 代理公司: | 北京展翅星辰知識產權代理有限公司 11693 | 代理人: | 王文生 |
| 地址: | 100176 北京市大興區經濟技*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏振 制冷 紅外 平面 探測器 | ||
本申請提供一種偏振非制冷紅外探測器,包括:陣列排列的多個探測器像元,所述探測器像元包括:包含讀出電路的硅基片和所述硅基片之上的微橋結構,其中相鄰兩行兩列的四個所述探測器像元為一個像元組,每個所述像元組中的多個所述探測器像元的偏振結構的設計相同,相互之間通過旋轉得到。本申請的技術方案,在非制冷紅外焦平面上的探測器像元的微橋結構上集成偏振結構,整個焦平面由多行多列探測器像元構成,每兩行兩列探測器像元為一個像元組,每個像元組中的多個探測器像元的偏振結構的設計相同,每個像元組中的多個探測器像元的偏振結構通過旋轉得到,在進行不同偏振方向的偏振光強度相減扣除時,背景強度相互抵消,實現盡可能均勻的消光比。
技術領域
本申請涉及紅外成像技術領域,尤其涉及一種偏振非制冷紅外焦平面探測器。
背景技術
自從美國Honeywell公司在上個世紀九十年代公開其基于氧化釩(VOx)的非制冷紅外焦平面(Infrared Focal Plane Array,簡稱IRFPA)探測器專利以來,主要發達國家都研發并生產了多種類似產品,廣泛地應用于夜視、觀瞄、槍瞄、導引等軍事領域,以及安防監控、測溫、森林防火、輔助駕駛等民用領域。中國也在2010年左右正式地進入了這個產業。
非制冷紅外焦平面探測器通常由紅外焦平面芯片、封裝殼體、吸氣劑、光學窗片組成,有的還包含半導體制冷片(Thermo Electric Cooler,簡稱TEC)。普通的紅外焦平面芯片上由多行多列的微測熱輻射計像元形成陣列,吸收目標輻射出來的紅外線,將其轉化為熱,由此產生的溫度變化引起熱敏材料(最常見的是氧化釩或多晶硅)的電阻變化,通過讀出電路讀出該變化,進一步通過A/D轉換(Analog-to-Digital Convert,模數轉換)后導出到顯示設備成像。圖像上的灰度通常代表目標的冷熱狀況,因此這個過程通常被稱為紅外熱成像。紅外熱成像是通過利用光強這一物理特性,反映目標的溫度及輻射特性。
由于光是橫波,因此具有偏振這另一重要物理特性。由于光的偏振特性,當光在在兩種介質的界面反射時會產生偏振光,并且反射光會隨著反射角的變化而變化。因此反射光中包含著界面的信息,可以通過分析反射光的偏振信息獲得界面信息。偏振紅外熱成像就是為了實現這一目的而發展起來的技術。
為了獲得紅外線中的偏振信息,可以在紅外熱像儀的鏡頭外安裝可旋轉外置偏振片。自然光通過偏振片后會成為線偏振光,而通過改變偏振片的角度則可改變透過的紅外光線的偏振方向。用戶獲取到不同偏振方向的偏振光的熱圖像之后,再進行后續處理,提取偏振信息。這一方法有三個缺點:1)外置偏振片的安裝會受到紅外熱像儀本身的形狀、體積等限制,光學元件復雜,光路系統復雜,成本較高,設計難度較大;2)成像不具有實時性,尤其是針對快速運動的物體;3)外置偏振片與紅外探測器之間存在相當的距離,經過偏振片的光線在紅外探測器焦平面的不同像元上會形成竄擾,使得實際消光比遠遠低于偏振片自身的消光比。
由于外置偏振片的這些缺點,有人在探測器像元上直接集成偏振結構來獲取偏振光信息,如圖1所示。這種方法的優點就是不用使用外置偏振片,而且可以獲取實時信息,并且無竄擾。
常用的偏振結構通常是不同偏振方向的金屬光柵,比如0°、45°、90°、135°四個偏振方向,或者0°、60°、120°三個偏振方向(此處假設面對頁面時從左往右代表0°方向,角度按逆時針方向遞增)。通過將不同偏振方向上獲得的偏振光光強進行處理,即可獲得偏振信息。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





