[發(fā)明專利]一種基于輝光放電原理將金屬沉積在塑膠基材表面的鍍膜系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810990151.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108950497B | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 余澤軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阜陽知麓信息科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司: | 廣州高炬知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44376 | 代理人: | 洪美 |
| 地址: | 236000 安徽省阜陽市潁東區(qū)經(jīng)濟(jì)開*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 輝光 放電 原理 金屬 沉積 塑膠 基材 表面 鍍膜 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體的說是一種基于輝光放電原理將金屬沉積在塑膠基材表面的鍍膜系統(tǒng);包括箱體,電機(jī)和承載裝置;承載裝置由電機(jī)驅(qū)動(dòng),所述承載裝置包括下支撐板、剪叉機(jī)構(gòu)和上支撐板,所述剪叉機(jī)構(gòu)由一組相互鉸接的料桿組成;剪叉機(jī)構(gòu)底部一端與下支撐板鉸接,剪叉機(jī)構(gòu)底部另一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接的滾輪能夠在下支撐板上的滑槽內(nèi)滑動(dòng);剪叉機(jī)構(gòu)頂部與上支撐板一端鉸接,剪叉機(jī)構(gòu)頂部與上支撐板另一端滑動(dòng)連接;所述料桿包括上料桿、中料桿和下料桿,所述中料桿能夠相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng);所述一號(hào)氣缸用于推動(dòng)滾輪在滑槽內(nèi)滑動(dòng)。本發(fā)明通過剪叉機(jī)構(gòu)和料桿配合能夠在工件濺鍍時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng),使得被鍍工件鍍膜均勻,從而提升濺鍍裝置的鍍膜效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體的說是一種基于輝光放電原理將金屬沉積在塑膠基材表面的鍍膜系統(tǒng)。
背景技術(shù)
濺鍍是一種物理氣相沉積技術(shù),濺鍍?cè)硎窃谡婵窄h(huán)境下,利用輝光放電或離子束產(chǎn)生的高能等離子體撞擊耙材,以動(dòng)量轉(zhuǎn)移方式將耙材內(nèi)的原子從耙材上轟擊出來而沉積在基板上形成薄膜。由于濺鍍可以達(dá)成較佳的沉積效率、精確的成份控制,以及較低的制造成本,因此已廣泛應(yīng)用于工業(yè)中各種金屬和非金屬膜層的制作。
現(xiàn)有技術(shù)中也出現(xiàn)了一些濺鍍裝置的技術(shù)方案,如申請(qǐng)?zhí)枮?010106052656的一項(xiàng)中國專利公開了一種基于輝光放電原理將金屬沉積在塑膠基材表面的鍍膜系統(tǒng),包括一個(gè)本體、一個(gè)承載裝置及至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)齒輪裝置。該本體包括一個(gè)頂板、一個(gè)底板及一個(gè)側(cè)壁。該承載裝置包括一個(gè)與底板的上軸承座轉(zhuǎn)動(dòng)連接的外圈承載架、一個(gè)與底板的下軸承座轉(zhuǎn)動(dòng)連接的內(nèi)圈承載架。該外圈承載架包括多個(gè)第一料桿,多個(gè)第一料桿均勻間隔設(shè)置且排布成一個(gè)外圈,相鄰兩個(gè)第一料桿間具有第一間距。該內(nèi)圈承載架包括多個(gè)第二料桿,每個(gè)第二料桿的直徑小于該第一間距。該多個(gè)第二料桿均勻間隔設(shè)置且排布成一個(gè)位于該外圈內(nèi)且與外圈同軸的內(nèi)圈。該驅(qū)動(dòng)齒輪裝置設(shè)置于該內(nèi)圈承載架與外圈承載架之間并用于驅(qū)動(dòng)該多個(gè)第一料桿與該多個(gè)第二料桿同時(shí)反向轉(zhuǎn)動(dòng)。該濺鍍裝置可以放置更多的被鍍工件,提高鍍膜效率;但鍍工件未能濺鍍均勻,鍍膜效果有待提升。
針對(duì)上述情況,本發(fā)明提出了一種基于輝光放電原理將金屬沉積在塑膠基材表面的鍍膜系統(tǒng),真空狀態(tài)下,通過剪叉機(jī)構(gòu)和料桿配合能夠在工件濺鍍時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng),使得被鍍工件鍍膜均勻,從而提升濺鍍裝置的鍍膜效果。
發(fā)明內(nèi)容
為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提出的一種基于輝光放電原理將金屬沉積在塑膠基材表面的鍍膜系統(tǒng),通過在承載裝置上放置被鍍工件,箱體內(nèi)為真空狀態(tài),開啟電機(jī)帶動(dòng)下支撐板轉(zhuǎn)動(dòng),從而使得剪叉機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng),把靶材上的粒子射向剪叉機(jī)構(gòu);同時(shí)電機(jī)輸出軸上連接的凸輪,轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)能夠擠壓一側(cè)的一號(hào)氣囊,一號(hào)氣囊內(nèi)的氣體被擠壓噴出至一號(hào)氣缸的氣腔內(nèi),使得一號(hào)活塞桿往復(fù)滑動(dòng),從而推動(dòng)連桿兩側(cè)的滾輪在下支撐板上的滑槽內(nèi)往復(fù)滑動(dòng),進(jìn)而使得剪叉機(jī)構(gòu)升降,被鍍工件能夠放置在剪叉機(jī)構(gòu)的相鄰料桿之間和中料桿上;當(dāng)承載裝置轉(zhuǎn)動(dòng)并升降運(yùn)動(dòng)時(shí),能夠使得被鍍工件被濺鍍的更加均勻,且濺鍍效率提高;并且當(dāng)剪叉機(jī)構(gòu)上升運(yùn)動(dòng)時(shí),下料桿與中料桿一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接,上料桿受力向下通過滾珠絲杠副推動(dòng)中料桿周向轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)而使得鍍膜表面更加均勻,并且適應(yīng)不同鍍膜要求的工件。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





