[發(fā)明專利]一種雙能成像方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810985232.5 | 申請日: | 2018-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN109115808B | 公開(公告)日: | 2021-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 儲根柏;于明海;趙永強;何衛(wèi)華;稅敏;辛建婷;張?zhí)戾?/a>;吳玉池;席濤;谷渝秋;周維民;曹磊峰 | 申請(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04;G01N9/24;G01B15/02 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 程華 |
| 地址: | 621000 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 成像 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種雙能成像方法,其特征在于,所述方法包括:
將皮秒激光加載到金屬微絲上,產(chǎn)生微焦點、高亮度的高能X射線;
根據(jù)所述高能X射線的能譜,選擇濾片和成像介質(zhì)組合;所述濾片和成像介質(zhì)組合包括兩個濾片和兩個成像介質(zhì);所述濾片與所述成像介質(zhì)交叉排布;所述濾片厚度分別為0.5mm和1mm,用于截止50keV以下的低能X射線;所述成像介質(zhì)為成像板記錄在200keV以下的X射線;
將所述高能X射線照射到金屬客體上,經(jīng)過濾片和成像介質(zhì)組合成像,得到金屬客體的雙能物理圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能成像方法,其特征在于,所述高能X射線的源尺寸為10μm,能量為10keV-1MeV。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能成像方法,其特征在于,在所述將所述高能X射線照射到金屬客體上,經(jīng)過濾片和成像介質(zhì)組合成像,得到金屬客體的雙能物理圖像,之后還包括:
利用金屬臺階樣品的成像灰度標(biāo)定所述雙能物理圖像的面密度,獲得面密度數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙能成像方法,其特征在于,所述利用金屬臺階樣品的成像灰度標(biāo)定所述雙能物理圖像的面密度,獲得面密度數(shù)據(jù),具體包括:
獲取所述金屬臺階樣品的各臺階成像灰度值;
獲取所述金屬臺階樣品的各臺階的厚度;
擬合所述成像灰度值與所述厚度之間的關(guān)系,得到擬合曲線;
獲取所述雙能物理圖像的灰度值;
根據(jù)所述雙能物理圖像的灰度值以及所述擬合曲線,確定金屬客體的光學(xué)厚度;
根據(jù)所述金屬客體的光學(xué)厚度以及所述金屬客體的密度,計算所述面密度。
5.一種雙能成像系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:
加載模塊,用于將皮秒激光加載到金屬微絲上,產(chǎn)生微焦點、高亮度的高能X射線;
選擇模塊,用于根據(jù)所述高能X射線的能譜,選擇濾片和成像介質(zhì)組合;所述濾片和成像介質(zhì)組合包括兩個濾片和兩個成像介質(zhì);所述濾片與所述成像介質(zhì)交叉排布;
雙能物理圖像確定模塊,用于將所述高能X射線照射到金屬客體上,經(jīng)過濾片和成像介質(zhì)組合成像,得到金屬客體的雙能物理圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙能成像系統(tǒng),其特征在于,所述高能X射線的源尺寸為10μm,能量為10keV-1MeV。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙能成像系統(tǒng),其特征在于,兩個所述濾片的厚度分別為0.5mm和1mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙能成像系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)還包括:
標(biāo)定模塊,用于利用金屬臺階樣品的成像灰度標(biāo)定所述雙能物理圖像的面密度,獲得面密度數(shù)據(jù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙能成像系統(tǒng),其特征在于,所述標(biāo)定模塊具體包括:
臺階成像灰度值獲取單元,用于獲取所述金屬臺階樣品的各臺階成像灰度值;
臺階厚度獲取單元,用于獲取所述金屬臺階樣品的各臺階厚度;
擬合單元,用于擬合所述成像灰度值與所述臺階厚度之間的關(guān)系,得到擬合曲線;
灰度值獲取單元,用于獲取所述雙能物理圖像的灰度值;
光學(xué)厚度確定單元,用于根據(jù)所述雙能物理圖像的灰度值以及所述擬合曲線,確定金屬客體的光學(xué)厚度;
面密度計算單元,用于根據(jù)所述金屬客體的光學(xué)厚度以及所述金屬客體的密度,計算所述面密度。
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