[發明專利]曝光裝置、調整方法和物品制造方法

有效

• 申請號: 201810983842.1
• 申請日: 2018-08-28
• 公開（公告）號: CN109426097B
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發明（設計）人: 小林大輔;中村有志
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 楊小明

本發明涉及曝光裝置、調整方法和物品制造方法。提供一種曝光裝置。裝置中的照明光學系統包含衍射光學元件、會聚光學系統、檢測從會聚光學系統出射的光束的檢測器、以及能夠在光路中在會聚光學系統會聚光束的預先確定的面附近的位置被插入/去除的第一光闌。第一光闌具有開口直徑，使得當來自光源的光在衍射光學元件上的入射角度偏離目標角度時檢測器的輸出減小?；诘谝还怅@被插入到所述位置中時的檢測器的輸出和第一光闌從所述位置縮回時的檢測器的輸出，控制器執行調整入射角度的處理。

技術領域

本發明涉及曝光裝置、調整方法和物品制造方法。

背景技術

通過照明光學裝置照明原版(中間掩模(reticle)或掩模(mask))并且經由投影光學系統將原版的圖案曝光到基板的投影曝光裝置越來越需要分辨率和產量的增加。為了實現高分辨率，曝光用光的波長較短和投影光學系統的數值孔徑(NA)增大(也稱為“較高的NA”)是有效的。

另一方面，通過經修改的照明(環形照明、偶極照明或四極照明等)來照明原版對于提高曝光裝置的分辨率是有效的。然后，衍射光學元件用于照明光學系統以形成經修改的照明是常規已知的。

如果進入衍射光學元件的光線的角度在這種照明系統中偏移，則有效光源的重心和對稱性可能變差，并且曝光時的遠心度(telecentricity)和覆蓋性能可能劣化。如果光源單元為了縮短曝光用光的波長從相對小的超高壓汞燈變為大的準分子激光器，則變得不可能將光源單元安裝在曝光裝置主體中，從而導致例如在第二層(floor)上布置曝光裝置主體并且在第一層上布置光源單元。在這種情況下，曝光裝置主體和光源單元的相對位置可能由于振動而改變，并且在照明光的光軸(中心光線)和照明光學裝置的光軸之間可能發生位置偏移和角偏移。因此，必須校正位置偏移和角偏移。在常規的曝光裝置中，作為校正位置偏移和角位移的方法，將曝光用光分支以將其引導到監視光學系統，并且通過專用監視器檢測光軸(參見日本專利公開No.11-145033和No.2007-194600)。

但是，在常規方法中，為了檢測光軸偏移，必須將光路分支以將其引導到與曝光用光不同的監視光學系統并通過專用監視器檢測光軸。這種專用的監視器和監視光學系統導致設備笨重。

發明內容

本發明提供例如能夠在抑制裝置尺寸的增加的同時調整照明光學系統的曝光裝置。

本發明在其第一方面中提供一種曝光裝置，該曝光裝置包括：包括：照明光學系統，被配置為用來自光源的光照射原版；投影光學系統，被配置為將原版的圖案投影在基板上；和控制器，其中，照明光學系統包含：衍射光學元件，設置在光源與原版之間的光路中；會聚光學系統，被配置為會聚從衍射光學元件出射的光束；檢測器，被配置為檢測從會聚光學系統出射的光束；和第一光闌，能夠在通過會聚光學系統會聚光束的預先確定的面附近被插入光路中/從光路被去除，第一光闌的開口直徑被設定為使得當來自光源的光在衍射光學元件上的入射角度偏離目標角度時檢測器的輸出減小，以及基于作為第一光闌在所述預先確定的面附近被插入光路中時的檢測器的輸出的第一輸出和作為第一光闌在所述預先確定的面附近從光路縮回時的檢測器的輸出的第二輸出，控制器執行調整入射角度的處理。

本發明在其第二方面中提供一種曝光裝置，該曝光裝置包括：照明光學系統，被配置為用來自光源的光照射原版；投影光學系統，被配置為將原版的圖案投影在基板上；和控制器，其中，照明光學系統包含：衍射光學元件，設置在光源與原版之間的光路中；會聚光學系統，被配置為會聚從衍射光學元件出射的光束；檢測器，被配置為檢測從會聚光學系統出射的光束；和光闌，在通過會聚光學系統會聚光束的預先確定的面附近被布置于光路中并且具有可調整的開口直徑，控制器被配置為：基于作為光闌的開口直徑被設定為第一開口直徑時的檢測器的輸出的第一輸出和作為光闌的開口直徑被設定為大于第一開口直徑的第二開口直徑時的檢測器的輸出的第二輸出，執行調整來自光源的光在衍射光學元件上的入射角度的處理，第一開口直徑是當入射角度偏離目標角度時檢測器的輸出減小的開口直徑，以及