[發(fā)明專利]一種蝕刻系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810978312.8
• 申請日: 2018-08-27
• 公開（公告）號: CN109104821A
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發(fā)明（設計）人: 王付軍;葉繼明
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海研深科技有限公司
• 主分類號: H05K3/06
• 分類號: H05K3/06
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 俞梁清

1.一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，包括蝕刻液的運輸管路，運輸管路上設置有進液泵和真空發(fā)生器；真空發(fā)生器包括三通管和增壓管；三通管的進液端、出液端和外接端對應連接前管部、后管部和吸液管，前管部和后管部是運輸管路中的部分管路；增壓管的前端設置在前管部的出液口上，增壓管的后端和后管部的進液口之間設有能使吸液管與后管部相連通的引流通道，增壓管內(nèi)設置有截面由前端至后端逐漸減小的增壓通道，前管部和后管部經(jīng)增壓通道相連通；吸液管的另一端連通用于吸取蝕刻廢液的吸液組件；運輸管路上連通有用于噴出蝕刻液的噴液組件；運輸管路中設置有儲液槽，后管部連通儲液槽；噴液組件所噴出的一部分蝕刻液擴散至電路板邊緣后滴落至儲液槽，另一部分蝕刻液依次經(jīng)吸液組件、吸液管、引流通道和后管部流至儲液槽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述吸液組件包括由上至下依次設置的吸液管、頂罩和吸液筒，頂罩底部開槽形成中轉(zhuǎn)腔室，吸液管連通中轉(zhuǎn)腔室，吸液筒的外側(cè)壁與頂罩底部槽內(nèi)側(cè)壁密封配合，吸液筒的底部開設有吸液孔，吸液筒的頂部開設有連通中轉(zhuǎn)腔室的第三排液孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述吸液筒的底部沿其長度方向開設有相互平行的至少兩排吸液孔，吸液孔呈沿吸液筒長度方向延伸的長條形。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述第三排液孔呈圓形，第三排液孔的孔面積大于吸液孔的孔面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述吸液組件包括有內(nèi)筒和旋轉(zhuǎn)套筒，內(nèi)筒設置在旋轉(zhuǎn)套筒內(nèi)且能夠相對其轉(zhuǎn)動，旋轉(zhuǎn)套筒的外表面繞周向布置有若干第一排液孔，內(nèi)筒的底部設置有第二排液孔；旋轉(zhuǎn)套筒轉(zhuǎn)動，第二排液孔依次與周向相鄰的第一排液孔連通；內(nèi)筒的端部連通有吸液管。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述內(nèi)筒的底部沿其長度方向開設有相互平行的至少兩排第二排液孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述第一排液孔還沿其長度方向均布在旋轉(zhuǎn)套筒的外表面。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述噴液組件包括主體，主體內(nèi)開設有相互連通的混合腔和緩沖腔，混合腔連通有第一進液管，緩沖腔連通有進氣管，主體的底部設置有噴管，噴管的內(nèi)腔連通混合腔。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述混合腔設置位置低于緩沖腔，混合腔設置在緩沖腔的斜下方。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述內(nèi)腔呈錐狀，其內(nèi)徑從連通混合腔的端部至噴出的端部逐漸減小。