[發明專利]一種鑭鈰釔稀土拋光粉及其制備工藝有效
| 申請號: | 201810975102.3 | 申請日: | 2018-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN109111856B | 公開(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發明(設計)人: | 史俊龍;雷美美;金玉培;王保國;李成榮 | 申請(專利權)人: | 甘肅稀土新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 甘肅省知識產權事務中心代理有限公司 62100 | 代理人: | 馬英 |
| 地址: | 730922*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鑭鈰釔 稀土 拋光 及其 制備 工藝 | ||
一種鑭鈰釔稀土拋光粉,其成份按質量百分數計,La2O3/TREO:10?40%,Y2O3/TREO:2?40%,CeO2/TREO:20?88%,F占TREO質量比的0%?15%。該鑭鈰釔稀土拋光粉的比重為0.5?0.7 g/cm3。本發明以含釔的稀土鹽溶液為主要原料,以碳酸氫銨為沉淀劑進行合成,再經洗滌、過濾、煅燒、破碎分級等工序獲得。釔的添加使拋光粉的形貌從根本上發生變化,由原來的不規則的塊狀變成規則的片狀,漿料懸浮性更好,有效成分更多,從而增強了漿料的切削力。
技術領域
本發明涉及一種稀土拋光材料制備及應用技術領域,具體是一種鑭鈰釔稀土拋光粉及其制備工藝。
背景技術
稀土拋光材料主要是以氧化鈰為基體的研磨材料,主要用于各種材料表面平整的冷加工,尤其是在玻璃行業的應用中特別突出,如手機玻璃、液晶顯示器、光學透鏡、球面光學玻璃、光學眼鏡片、光掩模、電氣·電子設備領域。隨著行業制造技術的不斷發展,對于玻璃的研磨要求具有更高的研磨速度及更好的表面精度。
氧化鈰、鑭鈰或鑭鈰鐠釹拋光粉是目前市場應用最廣的稀土拋光材料,其他拋光材料都是通過摻雜非稀土元素來改變拋光粉的形貌、性能。目前已經出現了有關含釤的稀土拋光粉,如專利CN107556922、專利CN10760349。專利CN10760349公開了一種含釤的稀土拋光粉,該工藝是一種比較新穎的生產工藝,目的是降低成本,開拓氧化釤的應用市場,但該工藝用碳酸鹽氟化,會使顆粒迅速長大,顆粒形貌不均勻。
氧化釔主要應用于陶瓷等行業,相對于其他稀土元素,氧化釔的應用方向較窄,庫存量較大,本發明嘗試把稀土釔元素加入到常規稀土拋光粉之中,意在拓寬氧化釔應用市場的同時得到特殊拋光性能的稀土拋光粉。
發明內容
本發明提供一種鑭鈰釔稀土拋光粉及其制備工藝,用該工藝制備的稀土拋光粉比重小,懸浮性好,切削力強,壽命長。
本發明所采用的技術方案為:
一種鑭鈰釔稀土拋光粉,其成份按質量百分數計,La2O3/TREO:10-40%,Y2O3/TREO:2-40%,CeO2/TREO:20-88%,F占TREO質量比的0%-15%。該鑭鈰釔稀土拋光粉的比重為0.5 -0.7 g/cm3。
一種鑭鈰釔稀土拋光粉的制備工藝,具體為:
a、將稀土的化合物配制為鹽溶液,該稀土鹽溶液中REO質量濃度為150g/ L~250g/L;
b、配制沉淀劑:配制碳酸氫銨溶液沉淀劑,質量濃度為150g/L~250g/L;
c、將1m3稀土鹽溶液加到反應容器內,升溫至60~90℃,向反應容器內加步驟b中配制的沉淀劑;
d、合成過程中測量體系PH值為7.0時結束反應,反應時間為2-6小時;
e、將沉淀物洗滌過濾,在750~950℃煅燒3-12h;
f、將煅燒產物與氟化劑混合氟化,再在1000~1100℃煅燒6-36h;
g、通過分級即得所述鑭鈰釔稀土拋光粉;
本發明所生產的稀土拋光粉比重小,為0.5-0.7 g/cm3,釔的添加使拋光粉的形貌從根本上發生變化,由原來的不規則的塊狀變成規則的片狀,漿料懸浮性更好,有效成分更多,從而增強了漿料的切削力且具有長壽命,適用于磨耗度較小的光學玻璃及其它光學器件,本發明不僅拓寬了稀土釔的市場,同時發明出一款應用在硬度較大、較難拋光的光學玻璃上的稀土拋光粉。
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