[發(fā)明專利]一種處理陰離子染料污水用羥基氧化鐵納米片的制備方法及應用

有效

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• 申請日: 2018-08-24
• 公開（公告）號: CN109046226B
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發(fā)明（設計）人: 趙丹;陳博;張寧
• 申請（專利權）人: 南昌大學
• 主分類號: B01J20/02
• 分類號: B01J20/02;B01J20/28;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/30
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 施秀瑾

1.一種處理陰離子染料污水用羥基氧化鐵納米片的制備方法，其特征是按如下步驟：

（1）將九水合硝酸鐵配制為鐵離子濃度為0.01-2.0 mol/L的鐵鹽水溶液，通入氮氣保護，放置在冰水浴中，機械劇烈攪拌；

（2）配制好還原劑混合水溶液，其中還原劑為硼氫化鈉或硼氫化鉀，濃度對應于鐵離子摩爾比控制在3-6，另加入適量氫氧化鈉使溶液pH值保持為12-14；

（3）將還原劑混合水溶液用蠕動泵控制速度滴加至鐵鹽水溶液中，滴加時間為1-2 h，滴加完畢后繼續(xù)還原反應2h得到前驅體；

（4）將還原得到的前軀體浸沒入無水乙醇中，于室溫下以200-800 r/min的速度攪拌6-12 h，而后濾出固體樣品在空氣中自然干燥氧化可得非晶態(tài)、厚度為1-4nm的羥基氧化鐵納米片。

2.權利要求1所述的一種處理陰離子染料污水用羥基氧化鐵納米片的制備方法所制備的羥基氧化鐵納米片在陰離子染料污水處理中的應用。

3.根據權利要求2所述的應用，其特征是在濃度為100-300 mg/L的染料污水中，投入所制的羥基氧化鐵納米片，使其在污水溶液中的分散濃度為10-600 mg/L，于室溫下分別在無光暗環(huán)境和有特定頻率光照條件下進行污物成分的處理。

4.根據權利要求2所述的應用，其特征是在無光暗環(huán)境條件下，染料污水在中性或酸性條件下，投入納米片與染料污水中剛果紅、曙紅Y的質量比控制為大于2時，攪拌1.5-8.0 h。

5.根據權利要求2所述的應用，其特征是在紫外光或者可見光的照射下，染料污水pH≤3，投入納米片與染料污水中剛果紅、甲基橙、曙紅Y染料的質量比控制為大于0.3時，加入20-50 mM雙氧水，進行類芬頓光催化降解反應0.2-2.0 h。