[發明專利]一種含釔的稀土拋光液及其制備方法在審
| 申請號: | 201810973281.7 | 申請日: | 2018-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN109096922A | 公開(公告)日: | 2018-12-28 |
| 發明(設計)人: | 姜霽濤;史俊龍;牛娟娟;金玉培;蔣春虎;柴進忠;馬相琴;雷美美;王保國;李成榮 | 申請(專利權)人: | 甘肅稀土新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 甘肅省知識產權事務中心 62100 | 代理人: | 馬英 |
| 地址: | 730922*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 釔稀土 抗板結劑 分散劑 拋光粉 拋光液 增效劑 溶劑 稀土拋光液 玻璃拋光 光學鏡頭 手機蓋板 研磨材料 拋光 制備 | ||
一種含釔稀土拋光液,包括含釔稀土拋光粉、分散劑、抗板結劑、增效劑和溶劑;其中,各組分的質量百分含量為:含釔稀土拋光粉為10~50%,分散劑為0.3%~1.5%,抗板結劑為0.5%~3%,增效劑為0.2%~5%,余量為溶劑;所述拋光液PH為7.5~9.5。本發明作為研磨材料,主要用途為手機蓋板玻璃拋光及其它光學鏡頭的拋光。
技術領域
本發明涉及一種含釔的稀土拋光液及其制備方法,屬于稀土材料制備技術領域。
背景技術
隨著電子信息技術的迅猛發展,傳統的應用于光電材料的拋光技術只能做到一般的平坦化處理,只有用性能更高的稀土拋光液CMP技術才能夠實現對光電材料的全局平坦化處理,隨著5G技術的推廣,拋光液將占有更大的市場份額。
在已有的專利文獻中稀土拋光液的制造原料主要為鑭鈰系列、鑭鈰鐠系列、鑭鈰鐠釹系列,純鈰系列,及部分摻雜鋁、硅的稀土拋光粉,而在現有元素中摻雜釔元素的稀土拋光液還未見報道。低純度的粗釔不僅價值低而且無法形成市場銷售,造成大量資源積壓。在稀土拋光液中添加釔元素不僅有很好的粒度分布及研磨性能,提高循環使用效率,而且能夠將資源充分利用。
發明內容
本發明提供一種含釔稀土拋光液及其制備方法,制得的稀土拋光液松懸浮性好、不板結、切削速度快,玻璃表面光潔度好。
本發明所采用的技術方案為:
一種含釔稀土拋光液,包括含釔稀土拋光粉、分散劑、抗板結劑、增效劑和溶劑;其中,各組分的質量百分含量為:含釔稀土拋光粉為10~50%,分散劑為0.3%~1.5%,抗板結劑為0.5%~3%,增效劑為0.2%~5%,余量為溶劑;所述拋光液PH為7.5~9.5。
所述含釔稀土拋光粉其成份按稀土質量比計,CeO2含量的比例占20~99.9%,Y2O3含量的比例占0.1%~80%。
所述含釔稀土拋光粉其成份按稀土質量比計,CeO2含量的比例占10~99.8%,Y2O3含量的比例占0.1%~60%,La2O3含量的比例占0.1~30%。
所述含釔稀土拋光粉其成份按稀土質量比計,CeO2含量的比例占20~99.5%,Y2O3含量的比例占0.1%~60%,La2O3含量的比例占0~30%,Pr7O11含量的比例占0~4%,Nd2O3含量的比例占0~4%。
一種含釔稀土拋光液的制備工藝,包括如下步驟:
a、制備稀土拋光粉前驅體,稀土拋光粉前驅體為稀土氧化物、碳酸鹽、硫酸鹽或硝酸鹽的一種或多種混合物;
b、對上述前驅體進行氟化,控制氟的含量為TREO的0~20%,氟化劑是氟化氫銨、硅氟酸、氫氟酸、氟化釔、氟化鈉和氟化銨的一種或多種混合物;氟化后烘干煅燒,烘干溫度為200~900℃,煅燒溫度為850~1100℃;
c、將煅燒產物破碎分級,破碎分級的粒度要求為D50:0.5~4.0um,D100:3~16um。
d、將破碎后的拋光粉按比例加入分散劑、抗板結劑、增效劑及溶劑,混勻調漿,球磨2
~4h,過篩灌裝后即得到含釔稀土拋光液。
所述分散劑為六偏磷酸鈉,所述抗板結劑為二氧化硅,所述增效劑為三聚磷酸鈉和七鉬酸銨,所述溶劑為水。
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