[發(fā)明專利]一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)及其方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201810972330.5
• 申請日: 2018-08-24
• 公開（公告）號: CN109023374A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅萬里
• 申請（專利權(quán)）人: 德雅（深圳）環(huán)境科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C25C1/12;C25C7/04;C25C7/06;C25C7/00
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1.一種酸性蝕刻液循環(huán)再生方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)預(yù)制一酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，其包括一廢液桶、一再生液桶、一離子膜電解循環(huán)裝置與一再生液調(diào)配監(jiān)控裝置，其中，該廢液桶分別連接至離子膜電解循環(huán)裝置與至少一蝕刻生產(chǎn)線，該再生液桶分別連接至離子膜電解循環(huán)裝置與再生液調(diào)配監(jiān)控裝置，該再生液調(diào)配監(jiān)控裝置連接至至少一蝕刻生產(chǎn)線，以形成閉路循環(huán)系統(tǒng)；

(2)由蝕刻生產(chǎn)線產(chǎn)生的蝕刻廢液儲存于廢液桶中，廢液桶中的蝕刻廢液通過自動檢測添加方式添加至離子膜電解循環(huán)裝置中；

(3)由離子膜電解循環(huán)裝置對蝕刻廢液進(jìn)行電解產(chǎn)生再生液與單質(zhì)銅，再生液儲存于再生液桶中，單質(zhì)銅由銅板的形式移出；

(4)分別將氧化劑、鹽酸、及儲存于再生液桶中的再生液加入到再生液調(diào)配監(jiān)控裝置中，由再生液調(diào)配監(jiān)控裝置中的若干檢測儀對再生液進(jìn)行檢測調(diào)配，使再生液的氧化還原電位范圍在480-520mv之間，銅濃度在30-60g/L范圍內(nèi)，再將再生液回流至蝕刻生產(chǎn)線中使用。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法，其特征在于，在所述步驟(2)中，具體包括以下步驟：

(2.1)由ORP監(jiān)控儀實時取樣檢測蝕刻生產(chǎn)線內(nèi)蝕刻液的氧化還原電位值，若氧化還原電位值在480－520mv范圍內(nèi)，則不斷重復(fù)該步驟，并執(zhí)行步驟(2.2)，否則，廢液桶中的蝕刻廢液自動添加到離子膜電解循環(huán)裝置中；

(2.2)由比重檢測儀實時取樣檢測蝕刻生產(chǎn)線內(nèi)蝕刻液的銅濃度，若銅濃度在30～60g/L范圍內(nèi)時，則不斷重復(fù)該步驟，否則，廢液桶中的蝕刻廢液自動添加到離子膜電解循環(huán)裝置中。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法，其特征在于，在所述步驟(3)中，具體電解過程包括以下步驟：

(3.1)氧化還原電位值低的蝕刻廢液，從離子膜電解循環(huán)裝置的陽極室低位進(jìn)入，在電解作用下，蝕刻廢液中的一價銅離子在陽極失去電子氧化成二價銅離子，二價銅離子增加，一價銅離子減少或消除，獲得氧化還原電位值高的再生液，再生液由陽極室高位流出，并儲存于再生液桶中；

(3.2)高含銅量的蝕刻廢液從離子膜電解循環(huán)裝置的陰極室低位進(jìn)入，在電解作用下，銅離子在陰極被還原成銅單質(zhì)從而降低銅離子濃度，降低銅離子濃度含量后的再生液從陰極室高位流出，并儲存于再生液桶中；

步驟(3.1)與步驟(3.2)無先后順序。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法，其特征在于，在所述步驟(1)中，所述酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)還包括連接于再生液調(diào)配監(jiān)控裝置的一酸霧吸收子系統(tǒng)，該酸霧吸收子系統(tǒng)包括并排設(shè)置的若干酸霧吸收裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法，其特征在于，還包括以下步驟：

(5)在離子膜電解循環(huán)裝置內(nèi)電解產(chǎn)生的氯氣依次進(jìn)入再生液桶與再生液調(diào)配監(jiān)控裝置，并有60-80％氯氣與再生液一同進(jìn)入蝕刻生產(chǎn)線中，剩下的20-40％氯氣進(jìn)入酸霧吸收子系統(tǒng)中，進(jìn)入酸霧吸收子系統(tǒng)中的氯氣首先與溶液混合反應(yīng)產(chǎn)生酸霧，接著酸霧采用射流的方式與酸霧吸收裝置內(nèi)的鐵物質(zhì)接觸反應(yīng)，以吸收處理酸霧。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法，其特征在于，在所述步驟(4)中，所述若干檢測儀包括比重檢測儀、ORP監(jiān)控儀、酸度計與流量計。

7.實施權(quán)利要求1至6中任一所述方法的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，其特征在于，其包括一廢液桶、一再生液桶、一離子膜電解循環(huán)裝置與一再生液調(diào)配監(jiān)控裝置，其中，該廢液桶分別連接至離子膜電解循環(huán)裝置與至少一蝕刻生產(chǎn)線，該再生液桶分別連接至離子膜電解循環(huán)裝置與再生液調(diào)配監(jiān)控裝置，該再生液調(diào)配監(jiān)控裝置連接至至少一蝕刻生產(chǎn)線，以形成閉路循環(huán)系統(tǒng)。