[發(fā)明專利]質譜儀的進樣裝置、進樣系統(tǒng)和進樣方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810967541.X
• 申請日: 2018-08-23
• 公開（公告）號: CN110858532A
• 公開（公告）日: 2020-03-03
• 發(fā)明（設計）人: 黃明宗
• 申請（專利權）人: 睿軒檢驗科技股份有限公司
• 主分類號: H01J49/04
• 分類號: H01J49/04;H01J49/26
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權代理有限公司 44334
• 代理人: 唐芳芳

1.一種進樣裝置，其特征在于，包括載體，所述載體包括承載盤和至少一個噴嘴結構，所述噴嘴結構由導電材料制成，所述噴嘴結構設置在所述承載盤上，所述噴嘴結構具有噴口，所述噴嘴結構的內部形成樣品槽，所述樣品槽與所述噴口連通，所述噴嘴結構鄰近所述噴口處設有連通所述噴嘴結構兩面的氣體通道，所述氣體通道具有進氣口和出氣口。

2.如權利要求1所述的進樣裝置，其特征在于，所述樣品槽呈漏斗狀。

3.如權利要求1所述的進樣裝置，其特征在于，所述氣體通道呈環(huán)狀而圍設所述樣品槽側面。

4.如權利要求3所述的進樣裝置，其特征在于，所述氣體通道的所述出氣口呈環(huán)形且環(huán)繞所述噴口。

5.如權利要求1所述的進樣裝置，其特征在于，所述噴嘴結構設置有識別特征。

6.如權利要求1至5中任一項所述的進樣裝置，其特征在于，還包括手持板，所述手持板固定在所述載體的一側。

7.如權利要求6所述的進樣裝置，其特征在于，多個所述噴嘴結構間隔設置在所述承載盤上。

8.如權利要求1至5中任一項所述的進樣裝置，其特征在于，所述樣品槽的表面附著有官能基涂層。

9.如權利要求8所述的進樣裝置，其特征在于，所述官能基涂層包括納米粒子。

10.一種進樣系統(tǒng)，其特征在于，包括設置在離子源上的進樣孔和如權利要求1至9中任一項所述的進樣裝置，所述進樣裝置的所述載體插入所述進樣孔內。

11.如權利要求10所述的進樣系統(tǒng)，其特征在于，還包括供氣裝置，所述供氣裝置提供氣體通過所述氣體通道。

12.如權利要求10所述的進樣系統(tǒng)，其特征在于，還包括掃描裝置，所述掃描裝置根據(jù)所述噴嘴結構的識別特征存儲所述噴嘴結構的所述樣品槽內的待測樣品的信息。

13.如權利要求12所述的進樣系統(tǒng)，其特征在于，所述離子源根據(jù)所述待測樣品的信息調整控制參數(shù)。

14.如權利要求10至13中任一項所述的進樣系統(tǒng)，其特征在于，所述離子源在所述噴嘴結構與游離物質進樣口之間形成高電壓差。

15.一種進樣方法，其特征在于，應用于如權利要求8或9所述的進樣裝置，所述方法包括：

將待測樣品注入所述樣品槽；

所述待測樣品中的目標分子與所述官能基涂層的官能基反應結合，所述待測樣品中的非目標分子從所述噴口流出；

將清洗緩沖液注入所述樣品槽；

將清洗液注入所述樣品槽。